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鎢鉬冶金全過程污染控制的關鍵在于,構建將資源提取、污染控制統籌設計的清潔生產新工藝,分離回收鎢鉬、氨等污染物以及廢水的減量化。該項目實現了低濃度氨氮廢水的源頭減排和廢水廢氣同步處理。處理成本降低,并提升了經濟效益。
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鉬濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜(pvd)方式。
在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為ar氣),在電場的作用下,ar氣電離成正離子和電子的, 靶上加有一定的負高壓,從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面, 以-的速度轟擊靶面,使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離靶面飛向基片淀積成膜。
濺射鍍膜的主要應用于:平板顯示器、鍍膜玻璃工業(主要包括建筑玻璃、汽車玻璃、光學薄膜玻璃等)、薄膜太陽能、 表面工程(裝飾&工具)、磁、光記錄介質、微電子、汽車車燈、裝飾鍍膜等。
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鉬絲用途:用作線切割絲制造電光源和電真空零件用作高溫-體和高溫結構零件用于高溫噴涂,以提高汽車及其它機械易磨損部件的耐磨性能可提供高溫鉬絲外觀: 鉬絲表面涂有石墨乳,呈較均勻的黑色,去掉石墨乳呈金屬光澤。