激光脈沖沉積設備-激光脈沖沉積設備-沈陽鵬程真空技術

脈沖激光沉積的原理

脈沖激光沉積原理：在真空環境下利用脈沖激光對靶材表面進行轟擊，利用激光產生的局域熱量將靶材物質轟擊出來，激光脈沖沉積設備，再沉積在不同的襯底上，從而形成薄膜。

脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，-物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。

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脈沖激光沉積系統的配置介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司生產、銷售脈沖激光沉積，我們為您分析該產品的以下信息。

1.靶: 數量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉，靶的選擇可通過步進電機控制;

2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉，激光脈沖沉積設備報價，工作環境的壓力可達300mtorr;

3.基板加熱電源，高到1200度;

4.真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;

7.閥門: 采用真空擋板閥;

8.真空檢測:真空計;

9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;

10.薄膜生長監控系統: 采用掃描型差分rheed;

11.監控系統:基板溫度的監控和設定，基板和靶的旋轉，靶的更換等;

12.各種電流導入及測溫端子;

13.其它各種構造:各種真空位移臺，磁力傳輸桿，激光脈沖沉積設備價格，真空法蘭，真空密封墊圈，真空用波紋管等;