沈陽鵬程真空技術有限責任公司——生產、銷售磁控濺射產品，單靶磁控濺射儀價格，我們公司堅持用戶為---，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽，以產品求發展，以求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創。
由于被濺射原子是與具有數十電子伏特能量的正離子交換動能后飛濺出來的，因而濺射出來的原子能量高，單靶磁控濺射儀公司，有利于提高沉積時原子的擴散能力，提高沉積組織的致密程度，使制出的薄膜與基片具有強的附著力。
濺射時，氣體被電離之后，氣體離子在電場作用下飛向接陰極的靶材，電子則飛向接地的壁腔和基片。這樣在低電壓和低氣壓下，產生的離子數目少，靶材濺射效率低；而在高電壓和高氣壓下，盡管可以產生較多的離子，但飛向基片的電子攜帶的能量高，容易使基片-甚至發生二次濺射，影響制膜。另外，靶材原子在飛向基片的過程中與氣體分子的碰撞幾率也大為增加，因而被散射到整個腔體，既會造成靶材浪費，又會在制備多層膜時造成各層的污染。
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設備簡介
主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內優的配置，從而提高設備的穩定性；另外自主開發的智能操作系統在設備的運行重復性及安全性方面得到---地保障。 目前該系列有基本型、---型、---型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據客戶的不同需求進行配置，比較靈活；標配4只φ2英寸永磁靶，4臺500w直流濺射電源，主要用來開發納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。
沈陽鵬程真空技術有限責任公司——磁控濺射產品供應商，我們為您帶來以下信息。
1. 濺射室---真空度：≤6.6×10-6 pa
2. 系統真空檢漏漏率：≤5.0×10-7pa.l/s
3. 系統從---開始抽氣：濺射室30分鐘可達到6.6×10-4 pa；
4. 系統停泵關機12小時后真空度：≤5pa
5. 濺射真空室1套，立式上開蓋結構，尺寸不小于ф300mm×300mm，全不銹鋼結構，弧焊接，表面進行電化學拋光，內含防污內襯，可內烘烤到100～150℃，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封，腔體內有照明系統
6. 磁控濺射系統 3套， 提供3塊測試靶材。鍍膜不均勻度≤5%
7. 旋轉基片臺 1套，樣品臺可放置不小于100mm樣品1片，具有連續旋轉功能，旋轉0—30轉/分連續可調。基片加熱溫度：室溫—500°c連續可調，由熱電偶閉環反饋控制，加熱電源配備控溫表，控溫方式為pid自動控溫及數字顯示
8. 觀察窗口及法蘭接口部件 1套
9. 工作氣路1套，包含：100sccm、20sccm流量控制器、cf16截止閥、管路、接頭等共2路； dn16充氣閥、管路、接頭等2路；
10. 抽氣機組及閥門、管道 1套，包含1臺進口復合分子泵及變頻控制電源680l/s ，德國普發hipace700分子泵；1臺機械泵4l/s ，1臺dn40氣動截止閥，單靶磁控濺射儀多少錢，機械泵與真空室之間的旁抽管路1套，cc150氣動閘板閥1臺用于復合分子泵與真空室隔離，節流閥1臺，dn40旁抽氣閥1臺，壓差式充氣閥1臺；管道采用不銹鋼三通及波紋管，
11. 安裝機臺架組件 1套，由方鋼型材焊接成，快卸圍板表面噴塑處理，機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾，單靶磁控濺射儀，四只腳輪，可固定，可移動。
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