沈陽鵬程真空技術有限責任公司——脈沖激光沉積供應商，我們為您帶來以下信息。
【設備主要用途】
pld450a型脈沖激光沉積設備采用pld脈沖激光沉積技術，激光脈沖沉積裝置廠家，用于制備高溫超導薄膜、半導體膜、鐵電薄膜、硬質薄膜以及微電子和光電子用多元氧化物薄膜及異質結，也可用于制備氮、碳、硅化合物及各種有機—無機復合材料薄膜及金剛石薄膜等。
【設備優點】
設備全程采用一鍵式操作抽氣，關機，激光脈沖沉積裝置報價，程序自動化定時操作。避免了繁瑣的角閥，插板閥人工開啟。
【設備主要組成】
設備由沉積腔室單室球形或圓筒形、樣品加熱轉臺、激光入射轉靶、激光窗、電源控制系統、激光束掃描系統、計算機控制轉靶的旋轉、脈沖準分子激光器等組成
沈陽鵬程真空技術有限責任公司——脈沖激光沉積供應商，激光脈沖沉積裝置，我們為您帶來以下信息。
主要用途：
用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。
系統組成:
主要由濺射真空室、旋轉靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、安裝機臺、真空測量及電控系統等部分組成。
離子輔助沉積 (ibad)系統介紹
離子輔助沉積已經成為在無規取向的基片或無定形基片上沉積雙軸結構薄膜的一種重要技術。neocera 開發了離子輔助的pld 系統，該系統將pld 在沉積復雜材料方面的優勢與ibad 能力結合在一起。
想要了解更多脈沖激光沉積的相關信息，歡迎撥打圖片上的熱線電話進行咨詢！
登錄后臺
