? 真空不銹鋼腔體
? 可集成熱蒸發源或濺射源
? 可旋轉的耐氧化基片加熱臺
? 流量計或針閥準確控制氣體流量
? 標準真空計? 干泵與分子泵
? 可選配不銹鋼快速進樣室
? 可選配基片-靶材距離自動控制系統
? 是金屬氧化物、氮化物、碳化物、金屬納米薄膜、多層膜、超晶格的較佳設備
以上就是為大家介紹的全部內容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們。
脈沖激光沉積系統特點及優勢：
可根據客戶需求定制產品，靈活性高，并提供的技術支持；靶臺可以安裝6個靶位，靶材更換靈活；樣品臺樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進樣室可以存儲多個靶和樣品；交易過程無需繁瑣的進、出關手續， 交貨期短，激光脈沖沉積裝置價格，高；
沈陽鵬程真空技術有限責任公司擁有---的技術，我們都以為本，信譽高，我們竭誠歡迎廣大的顧客來公司洽談業務。如果您對脈沖激光沉積感興趣，激光脈沖沉積裝置，歡迎---左右兩側的在線，或撥打咨詢電話。
沈陽鵬程真空技術有限責任公司生產、銷售脈沖激光沉積，我們為您分析該產品的以下信息。
1.靶: 數量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉，靶的選擇可通過步進電機控制;
2.基板:采用適合于氧氣環境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，激光脈沖沉積裝置公司，加熱時基板可旋轉，工作環境的壓力可達300mtorr;
3.基板加熱電源，高到1200度;
4.真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;
5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質，內表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;
6.排氣系統:分子泵和干式機械泵;
7.閥門: 采用真空擋板閥;
8.真空檢測:真空計;
9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;
10.薄膜生長監控系統: 采用掃描型差分rheed;
11.監控系統:基板溫度的監控和設定，基板和靶的旋轉，靶的更換等;
12.各種電流導入及測溫端子;
13.其它各種構造:各種真空位移臺，磁力傳輸桿，激光脈沖沉積裝置報價，真空法蘭，真空密封墊圈，真空用波紋管等;
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