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1959 年被發明以來就成為半導體工業的工藝材料之一。隨后光刻膠被改進運用到印制電路板的制造工藝，成為 pcb 生產的重要材料。
二十世紀 90 年代，化學光刻膠公司，光刻膠又被運用到平板顯示的加工制作，對平板顯示面板的大尺寸化、高精細化、彩色化起到了重要的推動作用。
在半導體制造業從微米級、亞微米級、深亞微米級進入到納米級水平的過程中，光刻膠公司，光刻膠也起著舉足輕重的作用。
總結來說，光刻膠產品種類多、性強，需要長期技術積累，對企業研發人員素質、行業經驗、技術儲備等都具有---要求，企業需要具備光化學、有機合成、高分子合成、精制提純、微量分析、性能評價等技術，具有---的技術壁壘。
光刻是整個集成電路制造過程中耗時長、難度大的工藝，耗時占ic制造50%左右，成本約占ic生產成本的1/3。光刻膠是光刻過程重要的耗材，光刻膠的對光刻工藝有著重要影響。
賽米萊德——生產、銷售光刻膠，我們公司堅持用戶為---，想用戶之所想，光阻劑光刻膠公司，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽，以產品求發展，以求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創。
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分辨率
分辨率英文名：resolution。區別硅片表---鄰圖形特征的能力，玻璃光刻膠公司，一般用關鍵尺寸cd，critical dimension來衡量分辨率。形成的關鍵尺寸越小，光刻膠的分辨率越好。
對比度
對比度contrast指光刻膠從---區到非---區過渡的陡度。對比度越好，形成圖形的側壁越陡峭，分辨率越好。
敏感度
敏感度sensitivity光刻膠上產生一個---的圖形所需一定波長光的能量值或---量。單位：毫焦/平方厘米或mj/cm2。光刻膠的敏感性對于波長更短的深紫外光duv、極深紫外光euv等尤為重要。
粘滯性黏度
粘滯性/黏度viscosity是衡量光刻膠流動特性的參數。粘滯性隨著光刻膠中的溶劑的減少而增加；高的粘滯性會產生厚的光刻膠；越小的粘滯性，就有越均勻的光刻膠厚度。光刻膠的比重sg，specific gravity是衡量光刻膠的密度的指標。它與光刻膠中的固體含量有關。較大的比重意味著光刻膠中含有更多的固體，粘滯性更高、流動性更差。粘度的單位：泊poise，光刻膠一般用厘泊cps，厘泊為1%泊來度量。百分泊即厘泊為粘滯率；運動粘滯率定義為：運動粘滯率=粘滯率/比重。 單位：百分斯托克斯cs=cps/sg。
粘附性
粘附性adherence表征光刻膠粘著于襯底的強度。光刻膠的粘附性不足會導致硅片表面的圖形變形。光刻膠的粘附性必須經受住后續工藝刻蝕、離子注入等。
抗蝕性
抗蝕性anti-etching光刻膠必須保持它的粘附性，在后續的刻蝕工序中保護襯底表面。耐熱穩定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。
表面張力
液體---表面分子拉向液體主體內的分子間吸引力。光刻膠應該具有比較小的表面張力surface tension，使光刻膠具有---的流動性和覆蓋。
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