目前全球光刻膠市場基本被日本和美業所壟斷。光刻膠屬于高技術壁壘材料，生產工藝復雜，純度要求高，需要長期的技術積累。日本的jsr、東京應化、信越化學及富士電子四家企業占據了全球70%以上的市場份額，處于市場壟斷-。
光刻膠市場需求逐年增加，2018年全球半導體光刻膠銷售額12.97億美元。隨著下游應用功率半導體、傳感器、存儲器等需求擴大，玻璃光刻膠哪里有，未來光刻膠市場將持續擴大。
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光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料，是轉移紫外-或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應用于集成電路(ic)，封裝(packaging)，微機電系統(mems)，光電子器件光子器件(optoelectronics/photonics)，平板顯示器(led，lcd，oled)，電子光刻膠哪里有，太陽能光伏(solar pv)等領域。
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根據化學反應機理和顯影原理的不同，光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶，但經-后形成不可溶物質的是負性膠;反之，對某些溶劑不可溶，經-后變成可溶的為正性膠。 從需求端來看，光刻膠哪里有，光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和pcb光刻膠。其中，半導體光刻膠的技術壁壘較高。
光刻膠產品種類多、-性強，是典型的技術密集型行業。不同用途的光刻膠-光源、反應機理、制造工藝、成膜特性、加工圖形線路的精度等性能要求不同，導致對于材料的溶解性、耐蝕刻性、耐熱性等要求不同。因此每一類光刻膠使用的原料在化學結構、性能上都比較特殊，要求使用不同品質等級的光刻膠-化學品。
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