劃分光刻膠的一個基本的類別是它的極性。光刻膠在---之后，被浸入顯影溶液中。在顯影過程中，正性光刻膠曝過光的區域溶解得要快得多。理想情況下，未---的區域保持不變。負性光刻膠正好相反，在顯影劑中未---的區域將溶解，而---的區域被保留。正性膠的分辨力往往是較好的，因此在ic制造中的應用更為普及，但mems系統中，由于加工要求相對較低，光刻膠需求量大，nr9 3000p光刻膠，負性膠仍有應用市場。
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樹脂:光刻樹脂是一種惰性的聚合物基質 ，是用來將其他材料聚合在一-起的粘合劑。 光刻膠的粘附性、膠膜厚度等都是樹脂給的。
感光劑:感光劑是光刻膠的部分，他對光形式的輻射能，---在紫外區會發生反應。---時間、光源所發射光線的強，度都根據感光劑的特性選擇決定的。
溶劑:光刻膠中容量較大的成分，感光劑和添加劑都是固體物質，為了方便均勻的涂覆，nr9 3000p光刻膠，要將他們加入溶劑進行溶解，形成液態物質，nr9 3000p光刻膠公司，并且使之具有---的流動性，可以通過選擇方式涂布在waf er表面。
添加劑:用以改變光刻膠的某些特性，如---光刻膠發生反射而添加染色劑。
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光刻膠是微電子技術中微細圖形加工的關鍵材料之一，---是近年來-和---規模集成電路的發展，更是大---進了光刻膠的研究開發和應用。印刷工業是光刻膠應用的另一重要領域。
1、光刻膠的技術復雜，品種較多。根據其化學反應機理和顯影原理，可分負性膠和正性膠兩類。光照后形成不可溶物質的是負性膠。反之，對某些溶劑是不可溶的，經光照后變成可溶物質的即為正性膠。
2、普通的光刻膠在成像過程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻膠圖形的對比度，從而降低了圖形的分辨率。隨著---加工特征尺寸的縮小，入射光的反射和散射對提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高---系統分辨率的性能，人們正在研究在---光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術。該技術的引入，可明顯減小光刻膠表面對入射光的反射和散射，從而---光刻膠的分辨率性能，nr9 3000p光刻膠報價，但由此將引起工藝復雜性和光刻成本的增加。
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