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光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料，是轉移紫外-或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因為光刻膠的作用就是作為抗刻蝕層保護襯底表面。光刻膠只是一種形象的說法，因為光刻膠從外觀上呈現為膠狀液體。
光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯-，nr29 25000p光刻膠，-的負性光刻膠或未-的正性光刻膠將會留在襯底表面，nr29 25000p光刻膠報價，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。
光刻膠按其形成圖形的極性可以分為：正性光刻膠和負性光刻膠。正膠指的是聚合物的長鏈分子因光照而截斷成-分子；負膠指的是聚合物的-分子因光照而交鏈長鏈分子。 -分子聚合物可以被顯影液溶解掉，因此正膠的-部分被去掉，nr29 25000p光刻膠公司，而負膠的-部分被保留。
光刻膠一般由4部分組成：樹脂型聚合物resin/polymer，溶劑solvent，光活性物質photoactive compound，pac，添加劑additive。 其中，樹脂型聚合物是光刻膠的主體，它使光刻膠具有耐刻蝕性能；溶劑使光刻膠處于液體狀態，便于涂覆；光活性物質是控制光刻膠對某一特定波長光/電子束/離子束/x射線等感光，并發生相應的化學反應；添加劑是用以改變光刻膠的某些特性，如控制膠的光吸收率/溶解度等。
注意事項：
若腐蝕液為堿性，則不宜用正性光刻膠；
看光刻機型式，若是投影方式，用常規負膠時氮氣環境可能會有些問題
負性膠價格成本低，正性膠較貴；
工藝方面：負性膠能-地獲得單根線，而正性膠可獲得孤立的洞和槽；
健康方面：負性膠為有機溶液處理，不利于環境；正性膠屬于水溶液，nr29 25000p光刻膠廠家，對健康、環境無害。
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正性光刻膠和負性光刻膠
光刻膠可依據不同的產品標準進行分類。按照化學反應和顯影的原理，光刻膠可分為正性光刻膠和負性光刻膠。如果顯影時未-部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相反，稱為負性光刻膠;如果顯影時-部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相同，稱為正性光刻膠。
在實際運用過程中，由于負性光刻膠在顯影時容易發生變形和膨脹的情況，一般情況下分辨率只能達到 2 微米，因此正性光刻膠的應用更為廣泛。
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