江蘇省無錫宜興前錦爐業設備有限公司為您提供燃氣隧道窯,led熒光粉燒結窯爐生產廠家。低氫技術、氣氛控制技術
傳統的還原設備采用高氫鉬絲爐,以氨分解氣作為工藝氣體,鉬絲作為加熱元件,窯爐氣氛氫含量達75%,有關大學及研究單位在實驗室做出的蘭綠粉優良的性能結果,在企業投產時,性能相差較大。高氫窯爐成為影響蘭綠粉,-是蘭粉性能的主要原因。
將氫含量降低至5—10%是-蘭綠粉的合理工藝條件,經實驗,采用鉬絲作為加熱元件,壽命短,不具有工業價值.。通過對窯爐熱工的優化設計和結構的開發,成功的采用硅鉬棒加熱,達到了工業化使用目的。硅鉬棒的表面負荷控制為5w/cm2以下,高溫區平均壽命達到5.5月,低溫區平均壽命達到10個月。
在低氫爐的開發過程中,成功地采用了熱電技術、高溫抗氫耐火材料技術、氣密硅鉬棒塞磚結構、雙門氮氣置換室、氣液轉換動力技術、plc控制技術、氣氛控制技術等。
5—10%的工藝氫采用氫氣源和氮氣源混配而成,由于氫含量低,混配氫的壓力應高于氮氣壓力的20—60%,通過在線式氫氣分析儀在線分析混合氣的氫含量,經控制裝置調節氫氣的流量,達到控制、穩定氫氣含量的目的。穩定的氫量工藝參數對蘭綠粉的產品有著重要的影響,在氣源壓力、爐內工況變化時,氣氛控制裝置可以實現5%的氣氛穩定度。
采用氣氛控制技術,將氫氣含量控制在50%左右,用于開發中氫綠粉鉬絲還原推板窯,將可以有效提高綠粉的產品,降低投資成本。
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