離子輔助沉積 (ibad)系統介紹
離子輔助沉積已經成為在無規取向的基片或無定形基片上沉積雙軸結構薄膜的一種重要技術。neocera 開發了離子輔助的pld 系統，該系統將pld 在沉積復雜材料方面的優勢與ibad 能力結合在一起。
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pld是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。pld方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩定狀態的組成和構造的人工合成新材料。
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脈沖激光沉積技術適合做的薄膜包括各種多元氧化物，氮化物，激光脈沖沉積裝置公司，-物薄膜，金屬薄膜，磁性材料等。
應用領域：
單晶薄膜外延srtio3，laalo3
壓電薄膜pzt，aln，bifeo3，batio3
鐵電薄膜batio3，kh2po4
熱電薄膜srtio3
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半導體薄膜zn(mg)o，aln，srtio3
高k介質薄膜hfo2，ceo2，al2o3，batio3，srtio3，pbzrtio3，laalo3，ta2o5
超導薄膜yba2cuo7-x，bisrcacuo
光波導，光學薄膜pzt，aln，batio3，al2o3，zro2，tio2
超疏水薄膜ptfe
紅外探測薄膜v2o5，pzt
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