公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！
光罩英文：reticle， mask，在制作ic的過程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導(dǎo)體上形成圖型，為將圖型---晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時，利用底片將影像至相片上。
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實體結(jié)構(gòu)：布滿集成電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。倍縮光掩模reticle：當(dāng)鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光掩模，通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模mask：當(dāng)鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。
制版plate---是將原稿成印版的統(tǒng)稱。有將鉛活字排成活字版，以及用活字版打成紙型現(xiàn)澆鑄成凸版和將圖像經(jīng)照像或電子分色獲得底片，用底片曬制凸版、平版、凹版等一系列的制版方法。在制版中影響印版的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。
ps版的顯影時間主要由ps版的種類、---時間及顯影液的濃度、顯影溫度等條件來確定。當(dāng)上述條件確定制版機(jī)后，ps版的顯影程度與顯影時間成正比關(guān)系，即顯影時間越長，顯影越。但顯影時間過長會產(chǎn)生網(wǎng)點縮小等現(xiàn)象。
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