硅片的化學(xué)機(jī)械拋光過程是以化學(xué)反應(yīng)為主的機(jī)械拋光過程，要獲得-的拋光片，必須使拋光過程中的化學(xué)腐蝕作用與機(jī)械磨削作用達(dá)到-種平衡。
如果化學(xué)腐蝕作用大于機(jī)械拋光作用，則拋光片表面產(chǎn)生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機(jī)械磨削作用大于化學(xué)腐蝕作用，則表面產(chǎn)生高損傷層。
制備高濃度的氧化拋光液想要優(yōu)異的拋光效果，必須要氧化粉在拋光液體系中，具備-的懸浮性.分散性，否則如果分散性不好，容易導(dǎo)致有大
顆粒，或者懸浮性不好，江門拋光液，都會影響拋光的效果，---的話會損壞機(jī)器，因此做好氧化拋光液粉體的懸浮性和分散性需要加入特定的分散劑或者懸浮劑來
解決這個難題。
而分散劑離子會吸附在氧化顆粒表面而成一層包覆層，具有高分子長鏈的部分在外端起到空間位阻作用，因此分散劑加入量增加，拋光液作用，吸附量也增加，顆粒
表面電負(fù)性增大，---拋光液的懸浮性，同時分散劑還可以產(chǎn)生-種嵌合吸附效應(yīng)，將顆粒表面完全覆蓋，氧化鋁拋光液，因此不易出現(xiàn)局部橋聯(lián)或絮凝現(xiàn)象，使得拋光
液的再分散性變好。
另外懸浮的時間長度要根據(jù)粉體的比重來確定，氧化拋光液可以適當(dāng)加入相應(yīng)的懸浮劑來增加懸浮性能。
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