光掩膜上游主要包括圖形設計、光掩膜設備及材料行業，下游主要包括ic制造、ic封裝、平面顯示和印制線路板等行業，應用于主流消費電子 手機、平板、可穿戴設備、筆記本電腦、車載電子、網絡通信、家用電器、led 照明、物聯網、電子等終端產品。
目前全球范圍內光刻掩膜版主要以生產商為主。由于下游應用領域廠商自建光刻掩膜版生產線的投入產出比很低，且光刻掩膜版行業具有一定的技術壁壘，所以光刻掩膜版都是由-生產商進行生產。
公司產品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高掩膜版以及后期的代加工服務！
光掩膜除了應用于芯片制造外，還廣泛的應用與像lcd，pcb等方面。常見的光掩膜的種類有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。主要分兩個組成部分，基板和不透光材料。基板通常是高純度，低反射率，低熱膨脹系數的石英玻璃。鉻版的不透光層是通過濺射的方法鍍在玻璃下方厚約0.1um的鉻層。鉻的硬度比玻璃略小，玻璃板，雖不易受損但有可能被玻璃所傷害。
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通過金屬化過程，在硅襯底上布置一層僅數納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在---一般是紫外線后可以被特定溶液顯影液溶解。使特定的光波穿過光掩膜照射在光刻膠上，可以對光刻膠進行選擇性照射---。然后使用前面提到的顯影液，溶解掉被照射的區域，這樣，光掩模上的圖形就呈現在光刻膠上。通常還將通過烘干措施，---剩余部分光刻膠的一些性質。
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