pvd技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)
其應(yīng)用范圍是：
1碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；
2金屬材料的表面硬度至少需要在hv170以上。
其優(yōu)點(diǎn)是:
與傳統(tǒng)磁控濺射單色pvd技術(shù)相比，雙色pvd工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果，兩種顏色的表面硬度都在hv600以上。
傳統(tǒng)磁控濺射單色pvd技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果，家具鍍鈦廠家哪里有，采取的工藝措施是在整體pvd單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。pvd是英文physical vapordeition物---相沉積的縮寫，是指在真空---鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上沉積形成不同顏色和-的薄膜。pvd膜層賦予產(chǎn)品表面金屬-和豐富的顏色，并---耐磨、耐腐蝕性，---。已經(jīng)廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、建筑五金、模具刀具等產(chǎn)品。
離子鍍
在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。可將離子發(fā)生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續(xù)放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊-了薄膜的附著力和，是一種結(jié)合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的pvd技術(shù)。
根據(jù)離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。
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