離子鍍技術早由d. m. mattox于1963年提出并付諸實踐的。其原理是在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發物質離化,在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時,處理鍍鈦選,把蒸發物或其他反應物鍍在基片上的工藝。
根據膜層粒子的獲得方式,離子鍍可分為蒸發型離子鍍和濺射型離子鍍,其中蒸發型離子鍍根據放電原理不同又可分為直流二級型離子鍍、熱絲弧離子鍍、空心陰極離子鍍以及熱陰極離子鍍等。
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