研磨盤是
cmp
研磨的支撐平臺(tái)，手動(dòng)拉絲機(jī)，
其作用是承載拋光墊并帶動(dòng)其轉(zhuǎn)動(dòng)。
它是控
制拋光頭壓力大小、轉(zhuǎn)動(dòng)速度、開關(guān)動(dòng)作、研磨盤動(dòng)作的電路和裝置。
(3)
拋光墊
拋光墊圖
3
通常使用聚---脂
(polyurethane)
材料制造，利用這種多孔
性材料類似海綿的機(jī)械特性和多孔特性，
表面有特殊之溝槽，
提高拋光的均勻性，
墊上有時(shí)開有可視窗，不銹鋼手動(dòng)拉絲機(jī)，
便于線上檢測(cè)。
通常拋光墊為需要定時(shí)整修和更換之耗材，
一個(gè)拋光墊雖不與晶圓直接接觸，但使用售命約僅為
45
至
75
小時(shí)。
拋光墊有軟墊，硬墊之分
[6]
。
圖
3.
拋光墊左軟，右硬
硬墊圖
3
，半自動(dòng)手動(dòng)拉絲機(jī)，右
:
較硬，拋光液固體顆粒大，拋-度較快
，
平行度、平整
度也較好
，
但表面較粗糙
，
損傷層較---。軟墊圖
3
，左具有-的硅片內(nèi)
平均性
，
拋光液中固體顆粒較小
，
因此可以增加光潔度
，
同時(shí)去除粗拋時(shí)留下的
損傷層。故采用粗精拋相結(jié)合的辦法
，
既可保持晶片的平行度、平整度
，
又可達(dá)
拋光是使用物理機(jī)械或化學(xué)---降低物體表面粗糙度的工藝。拋光技術(shù)主要在精密機(jī)械和光學(xué)工業(yè)中使用。拋光后的工件表面光滑具有-的反射效果。工件拋光后會(huì)減少厚度并容易劃傷，必須使用細(xì)絲絨布，麂皮，---毛和清洗劑清潔表面。下面就由拋光機(jī)廠家為大家介紹拋光表面出現(xiàn)點(diǎn)蝕的原因和方法。
原因：1、---或冰---濃度不敷。
2、拋光溶液中混入鹵素離子。
3、拋光溶液黏稠度太大。
4、酸濃度太高。
5、拋光溶液中鋁離子濃渡過(guò)高。
方法：1、添加---或冰---。
2、拋光液中混入鹵素離子后很難采取化學(xué)辦法肅清，只能采取改換局部溶液或從新配制新的溶液。
3、添加過(guò)量的水或改換局部新配液。
4、用鋁條老化溶液或添加新配液。
5、如是用于噴砂后的拋光溶液，鋁離子可用---物沉淀，不然應(yīng)改換局部舊液。
平面拋光機(jī)的一些應(yīng)用有哪些需求我們來(lái)停止運(yùn)用的呢？或者說(shuō)我們的運(yùn)用的范圍又是一個(gè)怎樣的程度呢？這就是我們需求停止相關(guān)設(shè)計(jì)的主要的關(guān)鍵要素之一了，由于我們必需要理解的一點(diǎn)關(guān)鍵點(diǎn)就是我們的一些重要組成要素關(guān)于我們來(lái)說(shuō)并不是很具有一定的實(shí)例，這個(gè)實(shí)力就是我們的消費(fèi)產(chǎn)品所具有的上的共同的優(yōu)勢(shì)和環(huán)節(jié)，這個(gè)環(huán)節(jié)在我們運(yùn)用的時(shí)分就需求我們要有一個(gè)相對(duì)完善的觀念，砂紙手動(dòng)拉絲機(jī)，這個(gè)觀念的轉(zhuǎn)變恰恰是我們停止制定緣由的-的展示要素，對(duì)我們來(lái)說(shuō)我們的一些共同的水準(zhǔn)化的營(yíng)銷就是我們需求停止對(duì)應(yīng)的一系列的轉(zhuǎn)換，這個(gè)轉(zhuǎn)換就是我們停止相對(duì)應(yīng)的加工的主要手腕之一，這樣的外型的設(shè)計(jì)的要素在一定的實(shí)踐應(yīng)用程度上得到了一個(gè)重要的簡(jiǎn)單性的環(huán)節(jié)，這個(gè)環(huán)節(jié)在我們的運(yùn)用根底上可以經(jīng)過(guò)我們的一些技術(shù)上的手腕的交融來(lái)到達(dá)我們應(yīng)由的一系列程度的開展，也是我們對(duì)應(yīng)營(yíng)銷的主要手腕的開展。
關(guān)于平面拋光機(jī)相對(duì)功用較對(duì)開的程度化的影響力的表現(xiàn)來(lái)說(shuō)我們的一些特有的手腕也是我們賴以生存的關(guān)鍵，由于我們關(guān)于這一整套的設(shè)備的整個(gè)價(jià)值上的開展關(guān)于我們來(lái)說(shuō)能夠停止一個(gè)-大的展示-，這個(gè)展示-在我們的應(yīng)用程度上能夠得到的價(jià)值，這也是我們的平面處置設(shè)備上的一個(gè)能夠發(fā)掘的一個(gè)相對(duì)較關(guān)鍵的一個(gè)問(wèn)題了。
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