鈣鈦礦鍍膜設備-沈陽鵬程-廣州鈣鈦礦鍍膜設備

多源有機無機蒸發系統

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主要用途：

用于納米級單層及多層金屬膜、 半導體膜等新材料的制備。廣泛應用 于大專院校的薄膜材料科研。

系統組成:

由真空室、蒸發源、樣品臺、 真空測量、膜厚測試、電控系統組成。

技術指標：

---真空度5.0×10-5pa，系統漏率：1×10-7pal/s； 恢復真空時間：40分鐘可達6.6×10 pa

真空室：d形真空室，尺寸350× 380mm 

樣品臺：尺寸為4英寸厚度3mm的平面樣品；

電極：數量：4支水冷結構；直徑φ20㎜

樣品基片:，基片在鍍膜位置實現自轉。基片的溫度從室溫至600℃

4套擋板系統：基片擋板與源擋板；靶擋板共有3套， 樣品擋板１套

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999? 

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統。

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多源蒸發系統介紹

沈陽鵬程真空技術有限責任公司供應電阻熱蒸發鍍膜產品，以下信息由沈陽鵬程真空技術有限責任公司為您提供。

主要用途：　　

系統主要用來生長el oel分子有機電致發光器件薄膜的研究工作　　

系統組成:　　

該類設備為雙室帶手套箱結構的有機、無機、多源有機、無機氣相分子沉積設備，鈣鈦礦鍍膜設備批發，采用直線式結構，鈣鈦礦鍍膜設備，由一個金屬材料生長、氧化物生長室、一個有機材料生長室和一個手套箱組成，鈣鈦礦鍍膜設備價格，金屬材料生長和氧化物生長室以及進樣室/氧化物生長室之間通過空氣鎖聯接，樣品通過帶遠程手控盒功能的電動磁力耦合裝置在兩個生長室之間手動傳遞。可選手套箱。　　

技術指標：　　

有機蒸發室：經烘烤6小時左右，并連續抽氣真空優于8.0×10 pa　　無機蒸發室：經烘烤6小時左右，并連續抽氣真空優于6.6×10 pa　　蒸發室：方形真空室，尺寸：450×400×350mm　　恢復真空時間：40分鐘可達6.6×10 pa短時間暴露-并充干燥氮氣后開始抽氣　　樣品尺寸：50×50mm 或100×100mm　　設有掩膜板和掩膜庫金屬材料/氧化物生長室可放置1-4個熱阻蒸發舟和一個掩膜庫有機材料生長室可放置1-8個高溫或低溫束源爐石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統，可選手套箱。