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有機無機蒸發鍍膜儀采用直線式結構，主要由二個有機材料生長室組成，兩個有機材料生長室之間通過閘板閥聯接，其中一個生長室系統預留與手套箱對接接口，能夠完成二套獨立的制備薄膜系統之間互相傳送基片。有機無機蒸發鍍膜儀的有機材料生長室主要由真空室腔體組件、有機蒸發源、熱阻蒸發舟、樣品傳遞裝置、樣品臺、膜厚監測儀、真空室照明裝置、烘烤裝置等組成。
廣泛應用于高校材料、物理、化學、電子、能源等相關學科以及科研院所制備高功能薄膜、蒸鍍電極等，半導體、有機el、oled顯示研究與開發領域。
系統組成:
主要由真空室、蒸發源、樣品臺、 真空抽氣及測量、膜厚測試 、電控系統組成。
技術指標：
---真空度4×10-5pa，系統漏率：1.2×10-7pal/s； 恢復真空時間：40分鐘可達6.0×10 pa-4
真空室：d形真空室，鈣鈦礦鍍膜設備，尺寸350× 400mm
樣品臺：尺寸為4英寸4平面樣品；
有機束源爐：數量：4支，標準型600度控溫；
樣品架：安裝加熱爐。基片的溫度從室溫至600℃硅片上表面的溫度，只需標定一次即可
4套擋板系統：動密封手動控制；
樣品擋板１套，磁力撥叉，
膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?
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蒸發技術分為間歇蒸發與連續蒸發、直接電阻加熱蒸發和間接電阻加熱蒸發，連續生產與制造厚膜時采用連續蒸發加熱。一個入射的蒸氣原子在表面的滯留時間中，石家莊鈣鈦礦鍍膜設備，原子不斷地擴散形成不均勻的成核作用，隨著蒸氣原子不斷地沖擊表面，各個核都在增長，相鄰各核開始接觸進入聚結階段，直到形成連續膜。也可把上述過程劃分為小島階段、網絡階段、孔階段及連續膜階段。
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