影響陽極氧化氧化膜的因素主要有：
氧化時間：氧化時間的選擇，取決于電解液濃度，溫度，陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下，當電流密度恒定時，鋁氧化廠家，膜的生長速度與氧化時間成正比；但當膜生長到一定厚度時，由于膜電阻升高，影響導電能力，而且由于溫升，膜的溶解速度增大，所以膜的生長速度會逐漸降低，到后面不再增加。
影響陽極氧化的氧化膜的因素有：
電解液中的雜質：在鋁陽極氧化所用電解液中可能存在的雜質有clˉ，fˉ，no3ˉ，cu2+，al3+，fe2+等。其中 clˉ，常州鋁氧化，fˉ，no3ˉ使膜的孔隙率增加，表面粗糙和疏松。若其含量超過-值，甚至會使制件發生腐蝕穿孔clˉ應小于0.05g/l，fˉ應小于0.01g/l；當電解液中al3+含量超過一定值時，往往使工件表面出現白點或斑狀白塊，并使膜的吸附性能下降，染色困難al3+應小于20g/l；當cu2+含量達0.02g/l時，氧化膜上會出現暗色條紋或黑色的斑點；si2+ 常以懸浮狀態存在于電解液中，使電解液微量混濁，以褐-狀物吸附于膜上。
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鋁及鋁合金的氧化處理的方法
電化學氧化：氧化膜厚度約為5～20微米硬質陽極氧化膜厚度可達60～200微米，有較高硬度，-的耐熱和絕緣性，抗蝕能力高于化學氧化膜，多孔，有-的吸附能力。
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