磁控濺射電源
從輸出波形看，伴隨著磁控濺射技術本身的發展，納米噴鍍廠家，經歷了直流、單極性脈沖、對稱雙極性脈沖中頻磁控濺射電源和雙極性脈沖非對稱中頻磁控濺射電源幾種方式。目前，新的磁控濺射電源基本上都采用高頻逆變開關電源技術制造，中頻磁控濺射電源已成為新的磁控濺射設備的電源。為了準確控制膜層厚度，磁控濺射電源必須穩定工作，并具有較好的恒定特性。目前，主要采用恒流方式，也有采用恒功率方式的，采用恒壓方式。另外，磁控濺射鍍膜技術具有的一個-優點是膜層致密、光潔度較好。要實現該優點，納米噴鍍加工，必須嚴格-磁控濺射過程中靶表面的打火次數和每次打火的能量，納米噴鍍設備，盡量減少打火瞬間造成的宏觀靶材粒子數量，它們會降低膜層的致密性和光潔度，納米噴鍍，-時會造成掉膜。
片式電阻端頭磁控濺射鍍膜機
本設備是片式電阻端頭鍍膜的設備，也適用于其它細小，顆粒狀，無法懸掛的片式元件鍍膜.
片式電阻端頭磁控濺射鍍膜機其特點為:
1.雙磁控濺射靶鍍膜速率高，膜層致密。
2.的夾具結構，可實現大批量電陰端頭鍍膜。
3.鍍膜成品率達99%以上。
4.整機采用不銹鋼制造，外型美觀。
5.控制操作介面可實現各工藝過程參數設置及故障顯示、開-機，鍍膜過程全自動運行。
鼎益科技
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