等離子清洗法利用等離子體產(chǎn)生的自由基與有機(jī)異物反應(yīng)，再以氣流的方式去除，從而達(dá)到清洗的目的。由于ap功率強(qiáng)，一般會(huì)對金屬表面產(chǎn)生影響，所以，池州硅片，在金屬制程中一般不采用ap plasma的清洗技術(shù)。ap使用的氣體主要是氮?dú)夂涂諝獍凑找欢ǖ谋壤旌�，同時(shí)，硅片酸洗設(shè)備，和玻璃基板保持合適的距離，硅片清洗機(jī)，加載一定的電壓，從而產(chǎn)生自由基，對基板表面進(jìn)行清潔。
超聲波清洗機(jī)釀造/制藥工業(yè)：
需要清洗的產(chǎn)品：瓶、蓋子、標(biāo)簽去除裝置、排氣裝置、處理器皿、處理用器具、充填裝置管道等
污染源：殘剩食物、指紋、灰塵、線頭、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、潤滑油、硅油
使用清洗劑：堿性洗滌劑、酸性洗滌劑、中性洗滌劑；有機(jī)洗滌劑；純水
清清洗設(shè)備是指可用于替代人工來清潔工件表面油、蠟、塵、氧化層等污漬與污跡的機(jī)械設(shè)備。目前市面上所見到清洗設(shè)備為：超聲波清洗、高壓噴淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及復(fù)合型清洗設(shè)備等；
醫(yī)學(xué)研究行業(yè)：
需要清洗的產(chǎn)品：手術(shù)器具、鉆頭、擴(kuò)孔器、食道鏡、支氣管鏡、直腸鏡、膀胱鏡、吸液管、玻璃容器、傳感器、試料玻璃等
污染源：-、凝膠體、灰塵、線頭、指紋、進(jìn)入血中的污物、殘剩的處理物、蛋白
使用清洗劑：堿性洗滌劑、中性洗滌機(jī)；消毒劑；純水、蒸餾水
清洗設(shè)備是指可用于替代人工來清潔工件表面油、蠟、塵、氧化層等污漬與污跡的機(jī)械設(shè)備。目前市面上所見到清洗設(shè)備為：超聲波清洗、高壓噴淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及復(fù)合型清洗設(shè)備等；
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