等離子清洗法利用等離子體產(chǎn)生的自由基與有機(jī)異物反應(yīng),再以氣流的方式去除,從而達(dá)到清洗的目的。由于ap功率強(qiáng),一般會(huì)對金屬表面產(chǎn)生影響,所以,池州硅片,在金屬制程中一般不采用ap plasma的清洗技術(shù)。ap使用的氣體主要是氮?dú)夂涂諝獍凑找欢ǖ谋壤旌,同時(shí),硅片酸洗設(shè)備,和玻璃基板保持合適的距離,硅片清洗機(jī),加載一定的電壓,從而產(chǎn)生自由基,對基板表面進(jìn)行清潔。
超聲波清洗機(jī)釀造/制藥工業(yè):
需要清洗的產(chǎn)品:瓶、蓋子、標(biāo)簽去除裝置、排氣裝置、處理器皿、處理用器具、充填裝置管道等
污染源:殘剩食物、指紋、灰塵、線頭、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、潤滑油、硅油
使用清洗劑:堿性洗滌劑、酸性洗滌劑、中性洗滌劑;有機(jī)洗滌劑;純水
清清洗設(shè)備是指可用于替代人工來清潔工件表面油、蠟、塵、氧化層等污漬與污跡的機(jī)械設(shè)備。目前市面上所見到清洗設(shè)備為:超聲波清洗、高壓噴淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及復(fù)合型清洗設(shè)備等;
醫(yī)學(xué)研究行業(yè):
需要清洗的產(chǎn)品:手術(shù)器具、鉆頭、擴(kuò)孔器、食道鏡、支氣管鏡、直腸鏡、膀胱鏡、吸液管、玻璃容器、傳感器、試料玻璃等
污染源:-、凝膠體、灰塵、線頭、指紋、進(jìn)入血中的污物、殘剩的處理物、蛋白
使用清洗劑:堿性洗滌劑、中性洗滌機(jī);消毒劑;純水、蒸餾水
清洗設(shè)備是指可用于替代人工來清潔工件表面油、蠟、塵、氧化層等污漬與污跡的機(jī)械設(shè)備。目前市面上所見到清洗設(shè)備為:超聲波清洗、高壓噴淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及復(fù)合型清洗設(shè)備等;