公共事業、電力、煤氣、-通訊行業：
需要清洗的產品：各類計量儀表、功率計、各類照明燈具、、隔電瓷瓶、通訊設備關鍵零部件等
污染源：油墨、油、灰塵、線頭、銹、泥、海鹽
使用清洗劑：有機洗滌劑；輕油石油系洗滌劑；堿性洗滌劑、中性洗滌劑
按頻率波可以分為三種，即次聲波、聲波、超聲波。次聲波的頻率為20hz以下；聲波的頻率為20hz~20khz；超聲波的頻率則為20khz以上。其中的次聲波和超聲波一般人耳是聽不到的。超聲波由于頻率高、波長短，因而傳播的方向性好、穿透能力強，晶圓腐蝕，這也就是設計制作超聲波清洗機的原因。
超聲波清洗機的應用
金融、造幣行業：
需要清洗的產品：圖章、受理號碼牌子、瓷器、金/銀制品等
污染源：手垢、灰塵、指紋、臟污
使用清洗劑：中性洗滌劑、堿性洗滌劑；純水
印刷/制版行業：
需要清洗的產品：旋轉機、金屬板、鉛字、母字、-小玻璃瓶、照相底版、金屬底盤等
污染源：油墨、指紋、油、染料
使用清洗劑：輕油石油系洗滌劑；堿性洗滌劑、中性洗滌劑
濕法刻蝕設備
是一種刻蝕方法，主要在較為平整的膜面上刻出絨面，從而增加光程，宿遷晶圓，減少光的反射，刻蝕可用稀釋的-等濕法刻蝕是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內進行腐蝕的技術。簡單來說，就是中學化學課中化學溶液腐蝕的概念，它是一種純化學刻蝕，具有優良的選擇性，晶圓酸洗，刻蝕完當前薄膜就會停止，而不會損壞下面一層其他材料的薄膜。由于所有的半導體濕法刻蝕都具有各向同性，所以無論是氧化層還是金屬層的刻蝕，橫向刻蝕的寬度都接近于垂直刻蝕的-。這樣一來，晶圓清洗設備，上層光刻膠的圖案與下層材料上被刻蝕出的圖案就會存在一定的偏差，也就無法高地完成圖形轉移的工作，因此隨著特征尺寸的減小，在圖形轉移過程中基本不再使用。目前，濕法刻蝕一般被用于工藝流程前面的晶圓片準備、清洗等不涉及圖形的環節，而在圖形轉移中干法刻蝕已占據--。
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