按照刻蝕工藝劃分，其主要分為干法刻蝕以及濕法刻蝕。干法刻蝕占------。干法刻蝕主要利用反應氣體與等離子體進行刻蝕，顯影清洗機，利用等離子體與表面薄膜反應，形成揮發性物質，或者直接轟擊薄膜表面市值被腐蝕的工藝。干法刻蝕的優勢在于能夠實現各向---刻蝕，即刻蝕時可控制僅垂直方向的材料被刻蝕，而不影響橫向材料，從而---細小圖形轉移后的保真性。因此在小尺寸的---工藝中，已經基本采用干法刻蝕工藝。濕法刻蝕工藝主要是將刻蝕材料浸泡在腐蝕液內進行腐蝕，該刻蝕方---導致材料的橫向縱向同時腐蝕，會導致一定的線寬損失。
清洗液的物理化學性質對清洗效果的影響
清洗液的靜壓力大時，不容易產生空化，所以在密閉加壓容器中進行超聲清洗或處理時效果較差
清洗劑的選擇要從兩個方面來考慮：一方面要從污物的性質來選擇化學作用效果好的清洗劑；另一方面要選擇表面張力、蒸氣壓及粘度合適的清洗劑，因為這些特性與超聲空化強弱有關。液體的表面張力大則不容易產生空化，但是當聲強超過空化閾值時，懷化顯影，空化泡崩潰釋放的能量也大，有利于清洗；高蒸氣壓的液體會降低空化強度，而液體的粘滯度大也不容易產生空化，因此蒸氣壓高和粘度大的潔洗劑都不利于超聲清洗。
此外，清洗液的溫度和靜壓力都對清洗效果有影響，清洗液溫度升高時空化核增加，顯影腐蝕臺，對空化的產生有利，但是溫度過高，氣泡中的蒸氣壓增大，空化強度會降低，所以溫度的選擇要同時考慮對空化強度的影響，也耍考慮清洗液的化學清洗作用每一種液體都有一空化活躍的溫度，水較適宜的溫度是60-80℃，此時空化活躍。
單晶圓清洗(swc)系統，顯影腐蝕機，用于---的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在---不損傷基片的情況下達到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片---意位置上的損傷閾值。nano-master的技術---了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的zui大化支持的清洗，同時---在樣片的損傷閾值范圍內。
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