目前，常用電鍍鍍鎳液體系包括硫suan鎳鍍液體系、氯hua鎳鍍液體系、-鎳鍍液體系和-磺suan鎳鍍液體系等。其中，-磺suan
鎳鍍液具有工藝范圍寬、可獲得低應力鍍層等優點，多用于對機械性能要求較高的電鍍領域。然而，-磺suan鎳鍍液在制備過程中由于原材料含有的雜質或配制工藝不當引入的雜質會在一定程度上導致鍍層機械性能的改變，如內應力增加等(雜質成分包括銅離子、鋅離子、鐵離子等陽離子及有機物等)。此外，新配制-磺suan鎳鍍液的ph值范圍一般在3.0?目前已有-介紹采用次亞磷suan鎳作為鎳和次亞磷酸根的來源，一個優點是避免了-根離子的存在，同時在補加鎳鹽時，能使堿金屬離子的累積量達到zui小值。3.2，而正常使用的ph值范圍在3.8?4.5，因此在使用前需提升ph值。一般情況下，提升鍍液ph值可加入氫氧hua鈉等強堿溶液(如針對硫suan鎳鍍液體系)，但是在-磺suan鎳鍍液體系中加入上述溶液后，中堂除蠟水，引入的雜質離子如鈉離子等會導致鍍層內應力的增加。而不引入雜質離子的堿性鎳鹽(如氫氧化鎳或堿式碳酸鎳)在水中的溶解度極低，提升ph值效率過低，除蠟水，ph值幾乎無變化。如何在-磺suan鎳鍍液配制過程中凈化原材料含有的雜質，道滘除蠟水，并且不引入雜質，且能夠實現ph值達到工藝要求，是--磺suan鎳鍍液體系低應力的難點技術。
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