適用設(shè)備：適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng)，多靶濺射系統(tǒng)，離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設(shè)備。 應(yīng)用領(lǐng)域：生產(chǎn)及科研方面應(yīng)用，光學(xué)，微納加工，器件等行業(yè)

適用設(shè)備：適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng)，多靶濺射系統(tǒng)，離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設(shè)備。 應(yīng)用領(lǐng)域：生產(chǎn)及科研方面應(yīng)用，光學(xué)，微納加工，器件等行業(yè)

適用設(shè)備：適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng)，多靶濺射系統(tǒng)，離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設(shè)備。 應(yīng)用領(lǐng)域：生產(chǎn)及科研方面應(yīng)用，光學(xué)，微納加工，器件等行業(yè)，

適用設(shè)備：適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng)，多靶濺射系統(tǒng)，離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設(shè)備。 應(yīng)用領(lǐng)域：生產(chǎn)及科研方面應(yīng)用，光學(xué)，微納加工，器件等行業(yè)，

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. 適用設(shè)備：適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng)，多靶濺射系統(tǒng)，離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設(shè)備。 應(yīng)用領(lǐng)域：生產(chǎn)及科研方面應(yīng)用，光學(xué)，微納加工，器件等

適用設(shè)備：適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng)，多靶濺射系統(tǒng)，離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設(shè)備。 應(yīng)用領(lǐng)域：生產(chǎn)及科研方面應(yīng)用，光學(xué)，微納加工，器件等行業(yè)，

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