硅材料用工業純水設備反滲透純水設備、蘇州純水設備

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高純水設備用于電鍍工藝崗位：槽液自來水、純水設備清理產品工件自來水純水、食品類工業化用水：純水設備食用純凈水、乳業、新能源：純水太陽能發電、微電子技術、新材料、化工廠崗位：護膚品、化工工藝自來水、電子器件崗位：集成電路芯片、顯象管、pcb線路板、電力電容器、電腦上元器件、試驗室自來水：原子光譜、超純化學物質剖析、痕量元素化學物質等試驗、半導體材料崗位：半導體材料芯片割開制做、集成電路芯片、半導體材料元器件材料、高純水設備可全自動化技術-，具備產水量水體平穩、安裝便捷、操作便捷、-、勞動效率低。純水設備系統主要分為兩個部分，分為預處理部分和除鹽部分，預處理部分又分為常規預處理及全膜法預處理，而除鹽部分，一般則采用ro反滲透，或者離子交換除鹽系統。一般自來水經陰陽離子交換或一級反滲透系統處理后，產水電導率＜10μs/cm，經二級反滲透系統后產水電導率＜2μs/cm甚至-，在反滲透系統后輔以離子交換設備或edi設備可以制備超純水。膜分離設備--藥物分離、回收、濃縮、提純設備
edi純水系統工藝流程：預處理***反滲透***中間水箱***水泵***edi裝置***純化水箱***純水泵***紫外線殺菌器***拋光混床***0.2或0.5μm精密過濾器***用水對象(***18mω.cm)

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