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chimera冷卻系統(tǒng)同樣用于粉末x射線衍射平臺，利用封閉循環(huán)的he氣對樣品臺進行控溫。適用于反射模式的垂直測角儀，為粉末樣品的高低溫實驗提供溫控方案。
原理同phenix冷卻系統(tǒng)
適用于市場上大多數(shù)垂直測角儀；
可進行遠程監(jiān)視、控制；
用于反射模式衍射實驗，非常適合粉末樣品的相變分析
技術(shù)參數(shù)
溫度范圍 70-525k
控溫精度 0.1 k
降溫速度 525k~室溫，用時50 min
室溫~100k，用時35 min
升溫速度 100k~室溫，用時40 min
室溫~525k，用時40 min
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