內(nèi)蒙古去離子水設(shè)備線路板清洗去離子水設(shè)備

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選擇去離子水設(shè)備的必---要性
　去離子水在電子工業(yè)主要是線路板、電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益---，去離子水質(zhì)已成為影響線路板、電子元器件產(chǎn)品、生產(chǎn)成品率及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也越來(lái)越高。在電子元器件生產(chǎn)中，去離子水主要用作清洗用水及用來(lái)配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件生產(chǎn)中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也不同。
在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，去離子水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過(guò)程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水中的堿金屬k、na等會(huì)使絕緣膜耐壓---，重金屬au、ag、cu等會(huì)使pn結(jié)耐壓降低，ⅲ族元素b、al、ga等會(huì)使n型半導(dǎo)體特性惡化，ⅴ族元素p、as、sb等會(huì)使p型半導(dǎo)體特性惡化[2]，水中---高溫碳化后的磷約占灰分的20-50%會(huì)使p型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)閚型硅而導(dǎo)致器件性能變壞[3]，水中的顆粒包括---如吸附在硅片表面，就會(huì)引起電路短路或特性變差。
去離子水中雜質(zhì)的污染源

1.水源的影響
　由于水是一種溶解能力很強(qiáng)的溶劑,因此天--然水中含有各種鹽類和化合物,溶有co2, 還有膠體(包括硅膠和腐殖質(zhì)膠體),天--然水中還存在大量的非溶解性質(zhì),包括粘土、砂石、---、微生物、藻類、浮游生物、熱源等。

2.材料的影響
　制備去離子水的材料設(shè)備的材質(zhì)都是用金屬和塑料制成的,金屬在水中會(huì)有痕量溶解,造成金屬離子污染。一些高分子材料,在合成時(shí)常常加入各種添加劑、增塑劑、紫外吸光劑、著色劑，也引入大量的金屬、非金屬雜質(zhì)，同時(shí)還會(huì)帶來(lái)有機(jī)污染。

3. 去離子水生產(chǎn)工藝介紹，制備電路板pcb去離子水的工藝流程大致分成以下幾種：

1、采用離子交換方式，其流程如下：
　原水***原水加壓泵***多介質(zhì)過(guò)濾器***活性炭過(guò)濾器***軟水器***精密過(guò)濾器***陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾床***陰樹(shù)脂過(guò)濾床***陰陽(yáng)樹(shù)脂混床***微孔過(guò)濾器***用水點(diǎn)

2、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：
　原水***原水加壓泵***多介質(zhì)過(guò)濾器***活性炭過(guò)濾器***軟水器***精密過(guò)濾器***di一級(jí)反滲透 ***ph調(diào)節(jié)***中間水箱***di二級(jí)反滲透反滲透膜表面帶正電荷***純化水箱***純水泵***微孔過(guò)濾器***用水點(diǎn)

3、采用edi方式，其流程如下：
　原水***原水加壓泵***多介質(zhì)過(guò)濾器***活性炭過(guò)濾器***軟水器***精密過(guò)濾器***一級(jí)反滲透機(jī)***中間水箱***中間水泵***edi系統(tǒng)***微孔過(guò)濾器***用水點(diǎn)
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