真空鍍膜加工是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件金屬、半導體或絕緣體表面而形成薄膜的一種方法。例如，電路板鍍膜加工廠，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
光的干涉在薄膜光學中廣泛應用。光學薄膜技術的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，石排電路板鍍膜加工，一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率，以滿足不同的需要。為了消除光學零件表面的反射損失，提高成像，涂鍍一層或多層透明介質膜，電路板鍍膜加工公司，稱為增透膜或減反射膜。
真空鍍膜技能一般分為兩大類，即物---相堆積pvd技能和化學氣相堆積cvd技能。
物---相堆積技能具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射規模寬、可堆積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點。
化學氣相堆積技能是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供應基體，憑借氣相作用或基體外表上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的辦法，主要包含常壓化學氣相堆積、低壓化學氣相堆積和兼有cvd和pvd兩者特點的等離子化學氣相堆積等。
在電子學方面真空鍍膜更占有較為重要的---。各種規模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導體激光器，電路板鍍膜加工技術，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件( ccd )也都甬道各種薄膜。
在元件方面，在真空中蒸發鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造電容器，蒸發硒可以得到靜電復印機用的硒鼓、蒸發鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發還可以用于制造超導膜和慣性約束巨變反應用的微珠鍍層。
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