edi高純水設(shè)備設(shè)計(jì)應(yīng)該遵循哪些原則：
1、整套裝置遵循一個(gè)程序運(yùn)行。即使無用水需求，edi高純水設(shè)備系統(tǒng)也保持循環(huán)運(yùn)行。
2、ro裝置帶有自循環(huán)管路，天津-廠用純水設(shè)備，在儲(chǔ)罐液位滿，不需進(jìn)水時(shí)，-廠用純水設(shè)備報(bào)價(jià)，設(shè)備自動(dòng)切換至小循環(huán)運(yùn)行狀態(tài)，二級(jí)ro產(chǎn)水返回中間水儲(chǔ)罐。
3、對(duì)一級(jí)，二級(jí)ro產(chǎn)水的電導(dǎo)率、一級(jí)產(chǎn)水ph值進(jìn)行連續(xù)性的監(jiān)控，帶有不合格水排放和自動(dòng)報(bào)警功能。
4、系統(tǒng)為24h不間斷運(yùn)行，無用水需求時(shí)保持布水管路內(nèi)低流速循環(huán)防止死水產(chǎn)生。
5、為方便驗(yàn)證每個(gè)處理單元的出水，對(duì)單體設(shè)備的性能進(jìn)行確認(rèn)，各設(shè)備單元設(shè)置取樣點(diǎn)。
電子工業(yè)用超純水設(shè)備的工藝流程
電子工業(yè)用超純水設(shè)備的工藝流程
電子工業(yè)用超純水設(shè)備的工藝大致分成以下幾種：
1、電子工業(yè)用超純水設(shè)備采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：原水***沙炭過濾器***精密過濾器***原水箱***陽床***陰床***混床(復(fù)床)***純水箱***純水泵***后置精密過濾器***用水點(diǎn)
2、電子工業(yè)用超純水設(shè)備采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進(jìn)行組合的方式，其基本工藝流程為：原水***沙炭過濾器***精密過濾器***原水箱***反滲透設(shè)備***混床(復(fù)床)***純水箱***純水泵***后置精密過濾器***用水點(diǎn)
3、電子工業(yè)用超純水設(shè)備采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子(edi)設(shè)備進(jìn)行搭配的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種，經(jīng)濟(jì)，-廠用純水設(shè)備，發(fā)展?jié)摿?--的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水***沙炭過濾器***精密過濾器***原水箱***反滲透設(shè)備***電去離子(edi)***純水箱***純水泵***后置精密過濾器***用水點(diǎn)
純水設(shè)備脫鹽率過快下降的原因
1、高壓差導(dǎo)致脫鹽率降低
壓力差的增大往往伴隨著脫鹽率的快速下降。在正常流量下，膜元件流道內(nèi)的雜質(zhì)、污染物、水垢等引起壓差升高，導(dǎo)致流量降低。
當(dāng)給水流量超過設(shè)定值時(shí)，會(huì)出現(xiàn)較大的壓差。當(dāng)啟動(dòng)時(shí)給水壓力上升過快時(shí)，水錘壓差會(huì)很大。如果膜受到污染，---是微生物污染，-廠用純水設(shè)備價(jià)格，壓差也會(huì)增大。給水與濃水的壓差代表水力阻力，與給水的速度和溫度有關(guān)。必須保持采出水和濃水的一定流速。出現(xiàn)高壓差的可能性包括水垢、微生物污染、阻垢劑沉淀、過濾介質(zhì)泄漏和給水/濃水密封損壞。
2、在線化學(xué)清洗不合理
超純水設(shè)備在運(yùn)行中不可避免地受到污染。各種藥劑的預(yù)處理和添加只能很大限度地減少反滲透污染的可能性，但不能完全消除。因此，反滲透系統(tǒng)長期運(yùn)行一段時(shí)間后，必須充分論證和確認(rèn)哪些污染物。
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