真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射、mbe分子束外延鍍膜機和pld激光濺射沉積鍍膜機等很多種。真空鍍膜機對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，蒸發或濺射出的成膜材料是在一般磁控濺射條件下與待鍍工件形成膜的過程。無論是金屬、合金、化合物、陶瓷還是有機物，都可以氣相沉積各種金屬膜和介質膜，塑料真空鍍膜設備，不同的材料可以同時氣相沉積得到多層膜。
鍍膜機是一種用于材料科學領域的工藝試驗儀器，磁濺射鍍膜機是一種普適鍍膜機，用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系。可鍍各種硬質膜、金屬膜、合金、化合物、半導體、陶瓷膜、介質復合膜和其他化學反應膜，真空鍍膜設備，亦可鍍鐵磁材料。主要用于實驗室制備有機光電器件的金屬電極及介電層，以及制備用于生長納米材料的催化劑薄膜層。
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來。并且沉降在基片表面，通過成膜過程散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長形成薄膜。
真空鍍膜應用是真空應用中的一個大分支，在光學、電子學、理化儀器、包裝、機械以及表面處理技術等眾多方面有著十分廣泛的應用。
在真空鍍膜機運轉正常情況下，開動真空鍍膜機時，五金真空鍍膜設備，須先開水管，工作中應---注意水壓。
在離子轟擊和蒸發時，應---注意高壓電線接頭，不得觸動，以防觸電。
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