光學(xué)薄膜系指在光學(xué)元件或獨(dú)立基板上，制鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類(lèi)膜的組合，防護(hù)罩防霧處理加工，以改變光波之傳遞特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變。故經(jīng)由適當(dāng)設(shè)計(jì)可以調(diào)變不同波段元件表面之穿透率及反射率，防護(hù)罩防霧處理，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。

光的干涉在薄膜光學(xué)中廣泛應(yīng)用。光學(xué)薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜，一般用來(lái)控制基板對(duì)入射光束的反射率和透過(guò)率，以滿(mǎn)足不同的需要。薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量?jī)H約0.1ev。薄膜的光學(xué)性質(zhì)，防護(hù)罩防霧處理廠(chǎng)家，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴(lài)于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。填充密度定義為薄膜固體部分的體積與薄膜的總體積(包括空隙和微孔)之比。防護(hù)罩防霧處理

光學(xué)薄膜在高真空度的鍍膜腔中實(shí)現(xiàn)。常規(guī)鍍膜工藝要求升高基底溫度(通常約為300℃);而較-的技術(shù)，如離子輔助沉積(iad)可在室溫下進(jìn)行。薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā)，或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量，傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量?jī)H約0.1ev。薄膜的光學(xué)性質(zhì)，如折射率、吸收和激光損傷閾值，主要依賴(lài)于膜層的顯微結(jié)構(gòu)。薄膜材料、殘余氣壓和基底溫度都可能影響薄膜的顯微結(jié)構(gòu)。防護(hù)罩防霧處理

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