對于真空鍍膜機(jī)設(shè)備而言，真空泵是獲得真空環(huán)境不可缺少的一部分，制造商每次制造真空鍍膜設(shè)備時(shí)都會(huì)搭配一個(gè)或多個(gè)真空泵。
真空鍍膜機(jī)在選擇如何選擇真空泵時(shí)，應(yīng)注意以下事項(xiàng)：
1.真空泵的工作壓力必須滿足真空設(shè)備的-真空和工作壓力要求。
2.正確地選擇真空泵的工作壓力。每種泵都有一定的工作壓強(qiáng)范圍，
3.真空泵在工作壓力下，應(yīng)能排出真空設(shè)備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。
4.真空泵的正確組合有選擇性吸入，有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備廠家，所以有時(shí)選擇一種泵也不能滿足進(jìn)氣要求，必須與幾種泵結(jié)合，互相補(bǔ)充，才能滿足進(jìn)氣要求。
真空鍍膜設(shè)備主要指需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，石排有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，mbe分子束外延，pld激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型鍍膜設(shè)備，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜設(shè)備、離子鍍真空鍍膜設(shè)備、磁控反應(yīng)濺射真空鍍膜設(shè)備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。
無論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點(diǎn)位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當(dāng)選擇可以使這些影響較小。
parylene是美國union carbide co.公司在六十年代推出的一種氣相沉積高分子聚合物材料，由的真空氣相沉積工藝制備，有機(jī)高分子鍍膜設(shè)備制造商，能涂敷到各種形狀的表面，號稱“無孔不入”，被業(yè)內(nèi)稱為好的防潮、防霉、防腐、防鹽霧的特殊防護(hù)涂層。parylene可分為n型、c型、d型、f型、ht型等多種類型
現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問題。
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