電鍍技術(shù)控制
新材料和日益復(fù)雜的應(yīng)用程序?qū)﹄婂儽砻嫣岢隽藝?yán)格的要求。無論是要求的耐磨強度，可焊性，耐腐蝕性還是導(dǎo)電性，薄的表面光潔度都能--性和長久的產(chǎn)品使用壽命。表面涂層通常解決了基材上的技術(shù)要求和應(yīng)用條件之間的利益沖突。憑借我們的標(biāo)準(zhǔn)電鍍技術(shù)，我們?yōu)楸姸鄳?yīng)用提供多種常見的選擇性工藝。
硬鍍鉻通常被描述為應(yīng)用厚度大于0.0002英寸的電鍍鉻沉積物。硬鉻鍍層的厚度通常為0.0005-0.01英寸，但理論上可以達(dá)到幾乎-的厚度。
凡是鍍前硬度***40hrc的基體鍍后要盡快除氫，在(200±5)℃的條件下，除氫3h;鍍前硬度***55hrc的基體金屬，鍍后的除氫溫度要降到(150±5)℃，但時間要適當(dāng)延長。
用油浴除氫時，要先將零件提前預(yù)熱，可將零件放人熱水或烘箱中預(yù)熱70～80℃，硬鉻電鍍廠，再將零件放入溫度與之接近的油浴中，硬鉻電鍍加工廠，再將溫度逐漸提高到除氫溫度，以避免由于溫度的聚變，使鍍層造成損壞。該方法的優(yōu)點是零件每個部位的溫度都很均勻，除氫的效果比較好.
電鍍硬鉻的鉻酐的濃度對鍍液的電導(dǎo)率起決定作用，可知在每一個溫度下都有一個相應(yīng)于高電導(dǎo)率的鉻酐濃度；鍍液溫度升高，電導(dǎo)率大值隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動。因此，單就電導(dǎo)率而言，電鍍硬鉻，宜采用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。
但采用電鍍硬鉻的高濃度-電解液時，由于隨工件帶出損失-，一方面造成材料的無謂消耗，不銹鋼電鍍硬鉻，同時還對環(huán)境造成一定的污染。而低濃度鍍液對雜質(zhì)金屬離子比較敏感，覆蓋能力較差。
鉻 酐濃度過高或過低都將使獲得光亮鍍層的溫度和電流密度的范圍變窄。含鉻酐濃度低的鍍液電流-，多用于電鍍硬鉻技術(shù)。較濃的鍍液主要用于裝飾電鍍，鍍液的性能雖然與鉻酐含量有關(guān)，主要的取決于鉻酐和-的比值。
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