真空電鍍適用范圍比較廣，如abs料、abs+pc料、pc料的產品。水電鍍因工藝較簡略，從設備到環境得要求均沒有真空離子鍍苛刻，從而被廣使用。但水電鍍有個弱點，只能鍍abs料和abs+pc料此料鍍的作用也不是很理想。而abs料耐溫只要80℃，這使得它的使用范圍被約束了。而真空電鍍可達200℃左右，這對使用在高溫的部件就可以進行電鍍處理了。像風嘴、風嘴環使用pc料，這些部件均要求耐130℃的高溫。另，一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在后面噴一層uv油，這樣使得產品外表即有光澤、有耐高溫、一起又-附著力。工藝流程作：產品外表清潔--〉去靜電--〉噴底漆--〉烘烤底漆--〉真空鍍膜--〉噴面漆--〉烘烤面漆--〉包裝。依據真空電鍍氣相金屬產生和沉積的辦法，真空塑料電鍍的辦法主要分為熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法兩種工藝。真空電鍍的一般做法是在素材上先噴一層底漆，兒童平衡車七彩電鍍公司，再做電鍍。因為素材是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分。另外，兒童平衡車七彩電鍍表面處理，因為塑料外表不能平坦，直接電鍍的工件外表不潤滑，光澤低，金屬感差，而且會呈現氣泡，水泡等-情況。噴上一層底漆今后，兒童平衡車七彩電鍍，會構成一個潤滑平坦的外表，而且了塑料自身存在的氣泡水泡的產生，使得電鍍的作用得以展現。
真空電鍍生產廠家在真空中制備膜層，包括鍍制晶態的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合物膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式，即蒸發鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發鍍膜通過加熱蒸發某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發鍍膜。這種方法早由m.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之一蒸發物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統抽-真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發。蒸發物質的原子或分子以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發源的蒸發速率和時間或決定于裝料量，并與源和基片的距離有關。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發源的方式以-膜層厚度的均勻性。從蒸發源到基片的距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。
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