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1. 易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有---的保成分性；
2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；
3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有---；
4. 發(fā)展?jié)摿?--，脈沖激光沉積裝置，具有---的兼容性；
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是比較理想的薄膜與涂層合成設備。可制備的薄膜包括氮化物、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2d材料。blue wave還提供相關(guān)系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外，bluewave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶si/sic、晶體aln-gan、聚合物、納米鉆石、hfcvd鉆石涂層以及器件加工。
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在一階段，激光束-在靶的表面。達到足夠的高能量通量與短脈沖寬度時，靶表面的一切元素會快速受熱，到達蒸發(fā)溫度。物質(zhì)會從靶中分離出來，而蒸發(fā)出來的物質(zhì)的成分與靶的化學計量相同。物質(zhì)的瞬時熔化率---取決于激光照射到靶上的流量。熔化機制涉及許多復雜的物理現(xiàn)象，例如碰撞、熱，與電子的激發(fā)、層離，以及流體力學。
在第二階段，根據(jù)氣體動力學定律，發(fā)射出來的物質(zhì)有移向基片的傾向，并出現(xiàn)向前散射峰化現(xiàn)象。空間厚度隨函數(shù)cosnθ而變化，而n>;>;1。激光光斑的面積與等離子的溫度，對沉積膜是否均勻有重要的影響。靶與基片的距離是另一個因素，支配熔化物質(zhì)的角度范圍。亦發(fā)現(xiàn)，將一塊障板放近基片會縮小角度范圍。
第三階段是決定薄膜的關(guān)鍵。放出的高能核素碰擊基片表面，脈沖激光沉積裝置公司，可能對基片造成各種破壞。高能核素濺射表面的部分原子，而在入射流與受濺射原子之間，建立了一個碰撞區(qū)。膜在這個熱能區(qū)碰撞區(qū)形成后立即生成，這個區(qū)域正好成為凝結(jié)粒子的較佳場所。只要凝結(jié)率比受濺射粒子的釋放率高，熱平衡狀況便能夠快速達到，由-熔化粒子流減弱，膜便能在基片表面生成。
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