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金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。
簡(jiǎn)單說(shuō)的話，例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜......鋁膜等。更換不同的靶材如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等，即可得到不同的膜系如超硬、耐磨、防腐的合金膜等。
應(yīng)用于顯示屏的阻擋層或調(diào)色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝等.
工業(yè)上大量使用的是工業(yè)純稀土金屬，較高純度的稀土金屬主要供測(cè)定物理化學(xué)性能之用。主要有四種提純方法在試驗(yàn)室中使用，本溪銀合金靶材，即真空熔融，真空蒸餾或升華，電遷移和區(qū)域熔煉。 稀土金屬棒在區(qū)域熔煉爐中以很慢的速度如提純釔時(shí)為0.4毫米/分，進(jìn)行多次區(qū)熔，對(duì)去除鐵、鋁、鎂、銅、鎳等金屬雜質(zhì)有，銀合金靶材，但對(duì)氧、氮、碳、氫無(wú)效。此外，銀合金靶材廠家，電解精煉、區(qū)熔－電遷移聯(lián)---提純稀土也有一定效果。
區(qū)域提純后的金屬鍺，其錠底表面上的電阻率為30～50歐姆 厘米時(shí)，純度相當(dāng)于8～9，可以滿足電子器件的要求。但對(duì)于雜質(zhì)濃度小于[kg2]10原子/厘米[kg2]的探測(cè)器級(jí)超純鍺，則尚須經(jīng)過(guò)特殊處理。
由于鍺中有少數(shù)雜質(zhì)如磷、鋁、硅、硼的分配系數(shù)接近于1或大于1，要加強(qiáng)化學(xué)提純方法除去這些雜質(zhì)，銀合金靶材價(jià)格，然后再進(jìn)行區(qū)熔提純。電子級(jí)純的區(qū)熔鍺錠用霍爾效應(yīng)測(cè)量雜質(zhì)載流子濃度，一般可達(dá)10～10原子/厘米。經(jīng)切頭去尾，再利用多次拉晶和切割尾，一直達(dá)到所要求的純度10原子/厘米，這樣純度的鍺相當(dāng)于13所作的探測(cè)器，其分辨率已接近于理論數(shù)值。
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