真空鍍膜可以鍍制高純度，高致密度，與基體結合力強的各種功能薄膜拜。-是各種金屬五金產品，-集成電路，小分子有機顯示器件等很多器件所需的主體薄膜只能在真空條件下制備，其他制模技術無法滿足要求。
此外還有化學氣相沉積法。如果從真空鍍膜的目的是為了改變物質表面的物理、化學性能的話，這一技術又是真空表面處理技術中的重要組成部分。現就其幾個主要應用方面做一簡單介紹。
真空鍍膜主要包含：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種。它們都是選用在真空條件下，始末蒸餾或濺射等方法在鍍件表面集合各種金屬和非金屬薄膜，始末這么的方法能夠大約得到十分薄的表面鍍層，一同具有速率快附著力好的杰出長處，塑膠真空鍍膜加工廠，可是報價也較高，能夠大約舉辦操作的金屬較少，一般用來作較產品的-性鍍層，真空鍍膜加工，比如作為內部屏蔽層運用。多見的塑膠產品電鍍技術有兩種：水電鍍和真空離子鍍。
真空離子鍍，又稱真空鍍膜加工.真空電鍍的做法現在是一種比較盛行的做法，做出來的產品金屬感強，亮度高．而相對另外的鍍膜法來說，本錢較低，對環境的污染小，不銹鋼真空鍍膜加工，現在為各行業遍及選用。 并且鍍件在電鍍前處理從字面理解就是對需要進行電鍍的工件或材料進行電鍍前的表面處理，以使其符合電鍍的要求，提高被鍍金屬在基體表面的沉積。
真空鍍膜是指在真空環境下，真空鍍膜加工廠，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面通常是非金屬材料，屬于物---相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。
pvd鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對于不同原理的pvd真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。
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