淺談鍍鎳電鍍液去除銅雜質的方法
不論采用哪種型式的陰極進行電解處理都應注意幾個問題：a.長時間電解處理時，應定時清洗電解板，防止電解板上疏松鍍層脫落重新污染鍍液；b.采用陰極移動或空氣攪拌可以提高處理效果；c.電解處理中使用的陽極板必須是的鎳陽極板，否則將影響處理效果，造成不---的浪費。
化學沉淀劑法。常見的有qt除銅劑，該沉淀劑主要成分是亞鐵青化物，在鍍液中與cu2+生成亞鐵青化銅沉淀，然后過濾出沉淀，達到去除銅雜質的目的。此方法的缺點是需要進行精密過濾，比較費時。
磷源的影響
---鹽和亞磷酸是目前研究較多的兩種磷源。
有研究認為以---為磷源的鍍液制得的鍍層有---的光亮度[3]，張春麗等[4]認為采用---為磷源的鍍液有更高的鍍速以及鍍層硬度。采用---鹽為磷源的鍍液，可以在較高的ph下進行電鍍陰極的電流效率較高，電鍍化學鎳加工廠家，但存在高ph下鍍層中磷含量低的缺點。降低ph有利于磷含量的增加，但同時會使---根離子在陽極的氧化變得容易，生成亞磷酸根離子，電鍍化學鎳，影響鍍液的穩定性。
電鍍化學鎳淺談鍍鎳電鍍液去除銅雜質的方法
螯合劑法。螯合劑一般為芳環或雜環結構的有機物，在鍍液中與cu2+形成螯合物，由于在電解中，鋁件電鍍化學鎳，螯合物和ni2+共沉積，可以使鍍液中ρcu2+不至于上升過高。這種方法簡單易行，是目前處理鍍鎳液中雜質較好和有效的方法。在應用時必須選用的螯合劑，---是要---不能對鍍層產生---的影響。
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