若將反應氣體導入蒸發空間，汽車配件真空鍍膜設備，便可在工件表面沉積金屬化合物涂層，這就是反應性離子鍍。由于采用等離子活化，工件只需在較低溫度甚至在室溫下進行鍍膜，真空鍍膜設備，完全---零件的尺寸精度和表面粗糙度，因此，可以安排在工件淬火、回火后即后一道工序進行。如沉積tin或tic時，飾品真空鍍膜設備，基體溫度可以在150-600℃范圍內選擇，溫度高時涂層的硬度高，與基體的結合力也高�；w溫度可根據基體材料及其回火溫度選擇，如基體為高速鋼，可選擇560℃，這樣，對于經淬火、回火并加工到尺寸的模具加工，無需---基體硬度降低及變形問題。另外，離子鍍的沉積速度較其他氣相沉積方法快，得到10mm厚的tic或tin涂層，電子真空鍍膜設備，一般只需要幾十分鐘。
由于粒子間的碰撞，產生劇烈的氣體電離，使反應氣體受到活化。同時發生陰極濺射效應，為沉積薄膜提供了清潔的活性高的表面。因而整個沉積過程與僅有熱的過程有明顯不同。這兩方面的作用，在進步涂層結協力，降低沉積溫度，加快反應速度諸方面都創造了有利條件。
等離子體化學氣相沉積技術按等離子體能量源方式劃分，有直流輝光放電、射頻放電和微波等離子體放電等。隨著頻率的增加，等離子體強化cvd過程的作用越明顯，形成化合物的溫度越低。
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，mbe分子束外延，pld激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。
真空鍍膜機工作的環境要求：
真空鍍膜設備要在真空條件下工作，因此該設備要滿足真空對環境的要求。真空對環境的要求，一般包括真空設備對所處實驗室或車間的溫度、空氣中的微粒等周圍環境的要求，和對處于真空狀態或真空中的零件或表面要求兩個方面。
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