薄膜(比如銥和鉑薄膜)之所以引起人們的興趣是因為它們具有-的性能 、高的電導率 、很強的催化活性以及-的穩定性等 。這些性能使得薄膜在電極材料 、微電子 、固態燃料電池和氣敏元件等許多領域存在廣泛的應用。
在cvd處理過程中，尺寸變形小的材料是硬質合金及含cr高的不銹鋼系合金；沖壓加工領域使用的模具材料主要限于合金工具鋼、冷作模具鋼cr12mov、硬質合金等，其中快冷淬透鋼，由于快冷時容易產生翹曲、扭曲等變形，所以不宜進行cvd處理；而高速鋼是熱處理膨脹較大的鋼種，使用時必須充分估計其膨脹變形量。
當考慮電子束蒸發技術時，該方法涉及純粹的物理過程，其中目標充當包含待沉積材料的蒸發源，該材料用作陰極。請注意，系統會根據電子束功率蒸發任何材料。通過在高真空下轟擊電子，在高蒸氣壓下加熱材料，飾品真空鍍膜設備，并釋放出顆粒。然后，硅膠真空鍍膜設備，在原子尺寸釋放的粒子和氣體分子之間發生沖突，該粒子插入反應器中，旨在通過產生等離子體來加速粒子。該等離子體穿過沉積室，在反應器的中間位置-。連續壓縮層被沉積，從而增加了沉積膜對基底的粘附力
cvd 制備銥高溫涂層人們之所以對作涂層材料感興趣是由于這類金屬優良的性能 。銥具有較強的能力和較高的熔點而受到重視， 是一種較理想的高溫涂層材料 。
20 世紀 60 年代以來， 航空航天技術飛速發展，新北真空鍍膜設備，一些高熔點材料(如石墨碳和鎢鉬鉭鈮等難熔金屬)被大量使用，但這些材料的一個共同的致命缺點是能力差。
60 年代美國材料實驗室(afml)對石墨碳的銥保護涂層進行過大量的研究，玻璃真空鍍膜設備， 采用了多種成型方法制備銥涂層 ，其中包括化學氣相沉積法 。雖然沒有制備出令人滿意的厚銥涂層， 但仍認為 cvd 是一種非常有希望且值得進一步研究的方法。
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