影響鍍膜機磁控靶點火電壓的因素有哪些
靶材對點火電壓的影響
(1)陰極靶材的不同材質，因濺射的能量閥值的不同，一般濺射“逸出功”較小的陰極靶材，其點火電壓和工作的電壓要低一些，反之則會高一些。(2)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵等)和鐵素體靶材，會偏轉和減少陰極濺射靶面磁場對磁控靶造成影響。靶面磁場的降低，使磁控靶需要---的電壓才能點火起輝。(3)點火電壓與磁控靶靶材濺射面積和真空腔體的機械尺寸大小有關。靶材濺射面積大，或是真空腔體的機械尺寸大，相應充入工作氣體的數量值較多，在同一陰-陽極電壓下，工作氣體例如氣電離出導電正離子和電子亦增多，導致點火電壓下降(在鍍膜時還會造成磁控靶濺射電壓一定程度上的降低)。
磁控濺射鍍膜靶電源的空載電壓
(1)靶電源輸出的空載電壓主要供磁控靶“點火起輝”用，其峰值電壓大體可分為三擋，即：800v-1kv-1.2(或1.3)kv左右。(2)大約在5kw以下的靶電源輸出空載電壓的峰-峰值vp-p一般在1~1.3kv左右;5kw以上的靶電源其輸出的空載電壓的峰-峰值vp-p大約在800~1kv;且電源功率越大,其輸出的空載電壓越接近偏小值。(3)鐵磁性靶材(鐵、鈷、鎳、氮化鐵)以及其它鐵素體靶材，在選用靶電源輸出的空載電壓時，須選擇靶電源輸出空載電壓峰-峰值vp-p范圍的偏大數值。
五金裝飾膜離子鍍膜機有哪些特點
該設備是一種、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。五金裝飾膜離子鍍膜機是一種、無污染的離子鍍膜設備，具有沉積速度快、離化率高、離子能量大、設備操作簡單、成本低、生產量大的優點。
真空電弧離子鍍膜的原理是基于冷陰極自持弧光放電等離子體蒸發、電離鍍料，結合脈沖偏壓技術，提高沉積粒子能量和活性，增強膜層的各項性能。它不僅能在金屬制品表面進行鍍膜而且能在非金屬制品表面上進行鍍膜；可以鍍金屬膜，氮化鈦、碳化鈦、氮化---、氮化鉻及鎳、鉻、銅等化合物膜、多層超硬膜、多元化合物膜，還可以鍍氮化鈦摻金膜等。電弧離子鍍膜廣泛應用于工具、模具的超硬涂層，汽車輪轂、高爾夫球具、鐘表、酒店用品、衛浴潔具、燈具、眼鏡鏡架、五金制品、陶瓷和玻璃等的裝飾涂層等領域。
至成鍍膜機廠家著力改進圓形電弧蒸發源，同時著力開發矩形平面電弧蒸發源，均已裝配新機。
真空鍍膜檢漏有哪3個過程？(1)充壓過程是將被檢件在充有高壓示漏氣體的容器內存放一定時間，如被檢件有漏孔，示漏氣體就可以通過漏孔進入被檢件的內部，并且將隨浸泡時間的增加和充氣壓力的，被檢件內部示漏氣體的分壓力也必然會逐漸升高。(2)凈化過程是采用干燥氮氣流或干燥空氣流在充壓容器外部或在其內部噴吹被檢件。如不具備氣源時也可使被檢件靜置，以便去除吸附在被檢件外表面上的示漏氣體。在凈化過程中，因為有一部分氣體必然會從被檢件內部經漏孔流失，從而導致被檢件內部示漏氣體的分壓力逐漸下降，而且凈化時間越長，示漏氣體的分壓降就越大。(3)檢漏過程則是將凈化后的被檢件放入真空室內，將檢漏儀與真空室相連接后進行檢漏。抽真空后由于壓差作用，示漏氣體即可通過漏孔從被檢件內部流出，然后再經過真空室進入檢漏儀，按檢漏儀的輸出指示判定漏孔的存在及其漏率的大小。
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