cvd 制備銥高溫涂層人們之所以對作涂層材料感興趣是由于這類金屬優良的性能 。銥具有較強的能力和較高的熔點而受到重視， 是一種較理想的高溫涂層材料 。
20 世紀 60 年代以來，鏡片鍍膜設備， ---航空航天技術飛速發展，一些高熔點材料(如石墨碳和鎢鉬鉭鈮等難熔金屬)被大量使用，但這些材料的一個共同的致命缺點是能力差。
60 年代美國材料實驗室(afml)對石墨碳的銥保護涂層進行過大量的研究， 采用了多種成型方法制備銥涂層 ，其中包括化學氣相沉積法 。雖然沒有制備出令人滿意的厚銥涂層，塑膠鍍膜設備， 但仍認為 cvd 是一種非常有希望且值得進一步研究的方法。
化學氣相沉積工藝是這樣一種沉積工藝，被沉積物體和沉積元素單元或多元蒸發化合物置于反應室，當高溫氣流進入反應室時，可控制的反應室可使其發生一種合適的化學反應，導致被沉積物體的表面形成一種膜層，鍍膜設備，同時將反應產物及多余物從反應室蒸發排除。
化學氣相沉積簡稱cvd，也即化學氣相鍍或熱化學鍍或熱解鍍或燃氣鍍，屬于一種薄膜技術。常見的化學氣相沉積工藝包括常壓化學氣相沉積npcvd，低壓化學氣相沉積lpcvd，-壓下化學氣相沉積apcvd。
物---相沉積技術基本原理可分三個工藝步驟：
(1)鍍料的氣化：即使鍍料蒸發，異華或被濺射，也就是通過鍍料的氣化源。
(2)鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞后，產生多種反應。
(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。
認識pvd物---相沉積技術
物---相沉積技術工藝過程簡單，真空鍍膜設備多少錢，對環境---，無污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結合力強。該技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。
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