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清洗劑的優點是:非ods,對油污的洗凈力強。滲透性好。無味或微臭,毒性小。廢液處理容易。可再生利用,-;缺點是有一定的性,線路板清洗,干燥慢,對清洗設備要求高,-投入大。比較理想的是采用真空清洗方式,降低其表面張力,提高清洗能力,后再使用真空干燥。設備造價-,操作比較復雜,效率相對較低。
清洗劑的主要成分是高純度的npb。其性能可以與cfc-113和tca相-。主要技術參數與tca幾乎完全一樣,濕潤系數-,對于金屬零件的清洗能力-。沒有閃點,可以重復回收使用,運行成本很低。替代cfc和tca,工藝完全一致,幾乎不需要更換設備。只需要調整一下蒸洗溫度就可以了,也被稱為是“第三的替代清洗劑”。
氟系清洗劑主要有hcfc(含氫氟氯化碳)、hfc(含氫碳---物)、hfe(氫氟醚)、pfc(全---碳)等。其中hfc,hfe,pfc本身不具有清洗力,需要和其它化合物組合后才能使用。該類清洗劑具有與cfc-113接近的清洗性能,穩定。低毒。不燃。安全-,但是通常價格昂貴。hcfc對臭氧層有一定的影響,大量使用的有hcfc-141b、hcfc-225。屬于過渡性替代品,終還要被禁用;hfc和hfe類清洗劑過于穩定。在-中的壽命-數千年甚至幾萬年。是非常厲害的溫室氣體。在<;京都議定書>;;正式生效以后,可能也要被---使用。
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水是重要的清洗劑,有著其它任何清洗劑無法替代的作用和-。普通的水很容易從自然界中得到,水有很強的溶解力和分散力。但是水的表面張力大,在使用中需要添加表面活性劑,以減小表面張力,增加表面濕潤性。在一般工業清洗中,酸,堿和水的配合比較常見,有些金屬用水洗要加入防銹劑;在精密和超精密工業清洗中。大部分要求將水制成純凈水。通常以電阻率來衡量水純度。半導體工業要求在18mω/cm以上。而tn型液晶生產10mω/cm就可以了。
半水基型清洗劑也叫準水基型清洗劑,是由高沸點溶劑及活性劑等組成如醇類,有機烴類等。通常含有5%一20%的水分,一般不燒,但加溫清洗時水含量控制不當,可能產生燃燒現象。半水基型清洗與溶劑洗有一些不同,它的清洗原理是剝離去除,而不是溶解。為了防止已經剝落的油污再附到被清洗物上,清洗液要連續地循環,并增加油水分離器。半水洗通常清洗效果-,但運行成本較高,廢液不能再生回收,重復使用,含cod化學耗氧量較高,需要進行廢水處理。