電鍍工藝管理是電鍍生產(chǎn)中的一個(gè)重要的環(huán)節(jié)，它的確定是電鍍---經(jīng)過數(shù)千萬次的反復(fù)試驗(yàn)研究得到的，因此，電鍍工藝具有很強(qiáng)的科學(xué)性。工藝的確定不僅要考慮到鍍層沉積速率、陰陽極的電流效率、金屬離子溶解和沉積的平衡，還要考慮到ｐｈ值的穩(wěn)定性，溫度和電流密度范圍的寬廣性、以及出-率、整平性能、光亮范圍等多方面的綜合而制定的。因此，我們必須要十分重視工藝中規(guī)定的各種技術(shù)參數(shù)，只有這樣才能-鍍出好的鍍層。
真空電鍍廠介紹真空鍍膜的均勻性
真空電鍍廠介紹，塑料真空電鍍工藝，真空鍍膜過程非常復(fù)雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因?yàn)槎夹枰哒婵斩榷鴵碛薪y(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。 并且均勻性這個(gè)概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，塑料真空電鍍廠家，下面分別說一下：
均勻性主要體現(xiàn)在3方面：
一.真空電鍍廠闡述，厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看也就是1/10波長作為單位，約為100a，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實(shí)現(xiàn)10a甚至1a的表面平整，是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在。
二.化學(xué)組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，塑料真空電鍍廠，sitio3薄膜，如果鍍膜過程不科學(xué)，那么實(shí)際表面的組分并不是sitio3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。
三.真空電鍍廠概述，晶格有序度的均勻性： 這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的-問題。
真空電鍍廠介紹影響電鍍的因素
真空電鍍廠介紹，塑料真空電鍍，影響電鍍的因素很多﹐包括鍍液的各種成分以及各種電鍍工藝參數(shù)。利用電解池原理在機(jī)械制品上沉積出附著-的、但性能和基體材料不同的金屬覆層的技術(shù)。下面就其中某些主要因素進(jìn)行討論。=
ph值的影響
鍍液中的ph值可以影響氫的放電電位﹐堿性夾雜物的沉淀﹐還可以影響絡(luò)合物或水化物的組成以及添加劑的吸附程度。通過加入緩沖劑可以將ph值穩(wěn)定在一定范圍。
添加劑的影響
真空電鍍廠闡述，鍍液中的光亮劑﹐整平劑﹐潤濕劑等添加劑能明顯-鍍層組織。
電流密度的影響
任何電鍍都必須有一個(gè)能產(chǎn)生正常鍍層的電流密度范圍。當(dāng)電流密度過低時(shí)﹐陰極極化作用較小﹐鍍層桔晶粗大﹐甚至沒有鍍層。隨著電流密度的增加﹐陰極極化作用隨著增加﹐鍍層晶粒越來越細(xì)。
攪拌的影響
真空電鍍廠概述，攪拌可降低陰極極化﹐使晶粒變粗﹐但可提高電流密度﹐從而提高生產(chǎn)率。此外攪拌還可增強(qiáng)整平劑的效果。
登錄后臺
