化學氣相沉積tin
將經(jīng)清洗、脫脂和氨氣還原處理后的模具工件，置于充滿h2體積分數(shù)為99.99%的反應器中，加熱到900-1100℃，金屬真空鍍膜設備，通入n2體積分數(shù)為99.99%的同時，并帶入氣態(tài)ticl4分數(shù)不低于99.0%到反應器中，則在工件表面上發(fā)生如下化學反應：
2ticl4氣+n2氣+4h2氣***2tin固+8hcl氣
固態(tài)tin沉積在模具表面上形成tin涂層，厚度可達3-10μm，副產(chǎn)品hcl氣體則被吸收器排出。工藝參數(shù)的控制如下：
1氮氫比對tin的影響
一般情況下，氮氫體積比vn2/vh2<1/2時，隨著n2的增加，tin沉積速率增大，涂層顯微硬度增大；當vn2/vh2≈1/2時，沉積速率和硬度達到值；當vn2/vh2>;1/2時，沉積速率和硬度逐漸下降。當vn2/vh2≈1/2時，所形成的tin涂層均勻致密，晶粒細小，硬度，涂層成分接近于化學當量的tin，而且與基體的結合牢固。因此，vn2/vh2要控制在1/2左右。
同時，人們把另一類氣相沉積，即通過高溫加熱金屬或金屬化合物蒸發(fā)成氣相，飾品真空鍍膜設備，或者通過電子、等離子體、光子等荷能粒子的能量把金屬或化合物靶濺射出相應的原子、離子、分子(氣態(tài))，在固體表面上沉積成固相膜，其中不涉及到物質的化學反應(分解或化合)，稱為物---相沉積pvd)。
隨著氣相沉積技術的發(fā)展和應用，臺灣真空鍍膜設備，上述兩類型氣相沉積各自都有新的技術內容，兩者相互交叉，你中有我，我中有你，致使難以嚴格分清是化學的還是物理的。
真空鍍膜機光學加工工藝發(fā)展情況及未來趨勢，中國的光學鍍膜零件冷加工在中華---時期是非常-的，到二十世紀五十年代從蘇聯(lián)和東德引進光學加工技術，顯示屏真空鍍膜設備，幾乎是過來的。 光學冷加工采用的是散粒磨料粗磨、精磨，古典式拋光。
加工效率低下，同時對操作者的技術要求較高，每個操作者都要經(jīng)過多年的技術崗位培訓才能正式上崗工作。技術較好的工人可以從加工毛坯到拋光，獨自完成全線的工作。這時的光學冷加工主要依靠技術工人的技能和經(jīng)驗加工零件，而工藝設計的作用在這個時期不是非常重要的。
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