全電介質(zhì)反射膜是建立在多光束干涉基礎(chǔ)上的。與增透膜相反，在光學(xué)表面上鍍一層折射率高于基體材料的鍍膜，就可以增加光學(xué)表面的反射率。簡單的多層反射膜是由高、低折射率的二種材料交替蒸鍍而成的，每層膜的光學(xué)厚度為某-長的四分之一。在這種條件下，參加疊加的各界面上的反射光矢量，振動方向相同。合成振幅隨著薄膜層數(shù)的增加而增加。
原則上說，全電介質(zhì)反射膜的反射率可以-接近于1，但是薄膜的散射、吸收損耗---了薄膜反射率的提高。迄今為止，工藝品漸變加工訂購，激光反射膜的反射率雖然已超過99.9%，但有一些工作還要求它的反射率繼續(xù)提高。應(yīng)用于強激光系統(tǒng)的反射膜，河北工藝品漸變加工，則-調(diào)它的抗激光強度，工藝品漸變加工，圍繞提高這類薄膜的抗激光強度所開展的工作，使這類薄膜的研究深入。
光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，大多數(shù)金屬的反射率都可達到78%~98%，但不可高于98%。
鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件金屬、半導(dǎo)體或絕緣體表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。
真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，工藝品漸變加工價格，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。
登錄后臺
