基體資料的外表狀況對掩蓋才能的影響比較復雜。
一般來說，同一鍍液在光潔度高的基體外表上掩蓋才能要比其在粗糙外表上的掩蓋才能好。因為外表積大，表面真空鍍膜加工，其實在電流密度較低，不易到達金屬的分出電位，而僅僅分出很多氫氣。別的，若是基體外表鍍前處置---，存在沒有除盡的油膜、各種成相膜層或污物等，也將阻礙鍍層的堆積而使掩蓋才能下降。
真空電鍍加工怎么進行呢？
一、真空鍍膜加工的鍍層厚度均勻致密。 無論工件如何復雜，均可在工件上得到均一鍍層，其鍍層精度可達±1微米。
二、各種基體材料均可處理，包括金屬、半導體及非金屬。
三、與金屬件結合強度高 一般強度在350-450mpa自然狀態下不起皮、不脫落。即可保持金屬基件原有的機械性能，真空鍍膜加工，又 增加了鍍件的耐磨性、耐腐蝕性。
四、耐腐蝕性強 金屬件經表面處理后，由于表面形成了一種非晶態鍍膜層，因為無晶界，所以抗腐蝕性能 優良。例如：在5%hci中，含p分數為10.9%鎳磷合金鍍層的耐腐蝕層比icr18ni9ti不銹鋼還高出 10
10%hci中則高出20倍以上。
相對于傳統鍍膜方式，塑膠真空鍍膜加工廠，真空鍍膜應用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：
真空蒸鍍
其原理是在真空條件下，用蒸發器加熱帶蒸發物質，使其氣化或升華，蒸發離子流直接射向基片，塑膠真空鍍膜加工，并在基片上沉積析出固態薄膜的技術。
濺射鍍膜
濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000v高壓電，激發輝光放電，帶正電的離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。
離子鍍膜
即干式螺桿真空泵廠家已經介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術基礎上發展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發物質(膜材)部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發物或其反應物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。
真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種利用物---相沉積的方法在柔性基體上連續鍍膜的技術，以實現柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。
上述四種都屬于物---相沉積技術應用(pvd)。
接下來是化學氣相沉積(cvd)。它是以化學反應的方式制作薄膜，原理是一定溫度下，將含有制膜材料的反應氣體通到基片上并被吸附，在基片上產生化學反應形成核，隨后反應生成物脫離基片表面不斷擴散形成薄膜。
束流沉積鍍，結合了離子注入與氣相沉積鍍膜技術的離子表面復合處理技術，是一種利用離化的粒子作為蒸鍍材料，在比較低的基片溫度下，形成具有-特性薄膜的技術。
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