首先根據現場調查分析靜烤箱，并對噴涂系統進行分析和總結。通過對噴涂操作具體過程的分析和總結，根據---靜電噴涂控制系統的參考，提出了靜電噴涂控制系統的設計結構，并設計了適合該系統的靜電噴涂控制柜。槍線操作。在此基礎上，設計了烤箱控制系統---部分的靜電噴涂控制器。該控制器與本文提出的靜電噴涂控制系統兼容，也可以支持手動噴涂。第三章控制器硬件電路的設計與實現在明確設計要求后，硬件電路的設計是為了實現靜電噴涂控制器的功能和要求。
本文設計的烤箱控制器主要分為兩部分。控制板主要負責控制器的控制參數計算，控制結果輸出和動態參數采集。操作面板主要負責參數設置和外部rs48_5通信。控制板主要由rs422通信模塊和電路輸出，兩個用于氣體輸出的靜電噴霧參數輸出模塊，以及兩個模塊的---測量電路和觸發電路組成。操作面板由按鈕顯示模塊，rs422通信模塊和rs48_5通信模塊組成;操作面板電源模塊由控制板電源模塊供電，并通過各種rs422通信模塊進行通信;操作面板的rs48_5通訊接口用于連接靜電噴涂控制柜內的rs48_5總線網絡。
目前，市場上粉體回收裝置的粉體溢出---，或者由于濾芯的損壞，大量粉體被噴灑到室外。烤箱的粉末回收裝置，通過調整風機參數，設置動壓均衡器和排濾板結構，可提高粉末回收效率，基本上避免了粉末外溢現象。此外，為了完全消除外部環境的影響，已經取消了室外排放的排氣管道。烤箱送粉系統在粉體的供應和運輸中起著重要的作用。它是噴涂系統的關鍵環節，直接影響噴涂的效率和，影響整個噴涂系統的正常運行。為了提高噴涂效率，現有技術大多采用多噴槍噴涂設備，因此送粉系統通常在送粉筒的上端并排設置多個排放孔，將相應的送粉泵與送粉管連接起來，終進行輸送。運動到每個噴槍，輔以噴槍控制器，噴粉烤箱，改變粉末輸出和粉末霧化狀態，達到不同的膜厚，滿足不同產品的需求。
烤箱根據不同的工作條件和環境，對送粉系統進行不斷的改進和---。針對現有工藝不能---粉末均勻性的問題。烤箱壓縮空氣系統和噴涂材料儲罐。噴頭機構安裝在涂布機上，壓縮空氣系統與噴頭機構連接，噴霧物料儲罐的物料輸送機構與噴頭機構連接，還包括氣固混合器。進入涂布機的粉末可以預先與氣體和固體充分混合，大顆粒粉末可以完全分散成均勻的小顆粒，從而有效地---了烤箱的粉末噴射的。傳統的粉末噴涂設備的供粉系統固定在設備內部，空間相對封閉，使得供粉系統的粉室難以更換和清潔，并且積聚了大量的殘留粉末，容易造成供粉系統的堵塞。為此，噴塑烤箱廠家，在送粉中心主體上設置空腔和送粉小車，通過連桿鉸接安裝相應的底板和圓筒，完成送粉小車與送粉中心的分離，便于清洗和維護。另外，在粉末推車的表面上并排設置多個出口以與粉末泵連接，粉末泵可以由多個噴槍完全噴涂。
由于調節烤箱減壓閥以控制輸出氣壓，步進電機由pwm單脈沖輸出模式控制，電機速度由pwm脈沖頻率決定。在設計步進電機控制子程序時，根據烤箱控制算法模塊計算出的控制量確定步進電機控制芯片配置端口的電平，以控制電機的正轉，反轉和停止進入休眠模式。當步進電機正向旋轉時，下拉enable使能控制芯片，上拉復位reset和睡眠sleep，ms1和ms2分別為1高電平和0低電平，烤箱，配置為1/2步進模式，dir為高電平電源平板步進電機正向前旋轉。反相時，dir很低。停止時，拉動enable禁用控制芯片并下拉reset復位控制芯片。根據由氣壓控制算法計算的輸出控制量，確定步進電機控制的轉向和調節步驟，然后調用步進電機驅動模塊程序進行調節。
adc模擬采樣模塊編程控制器需要采集輸出的動態參數。烤箱動態參數為輸出電壓，輸出電流，反饋電流，流量氣壓，霧化氣壓和總氣壓。還需要收集壓力傳感器供電電壓作為校正。電壓，因此有---收集7個通道的adc，靜電噴涂烤箱，并使用dma模式傳輸，與主程序并行運行，以降低cpu使用率并提高實時性能。 adc使用定時器觸發器，烤箱每隔一段時間觸發一次adc轉換，具體取決于控制器設計的控制周期。 adc采樣的數據會波動，這將影響控制量的計算。因此，過采樣技術，adc采樣配置的采樣數據是12位，并且采樣數據被累加到16位采樣值中以避---個采樣。過度采樣誤差對反饋控制的影響。
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